Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9315260 à vendre en France

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 est un graveur/asher conçu pour fournir des performances de précision pour le traitement de substrat à haute température. Cet équipement est utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour graver et éliminer la résine photosensible d'une variété de plaquettes et de substrats. ONTRAK Kiyo 45 utilise une technologie exclusive de chambre de diffusion de gaz à plusieurs chambres, ainsi qu'un mécanisme d'alimentation en gaz de haute précision, pour mieux contrôler le processus de gravure. LAM RESEARCH La chambre de diffusion de gaz Kiyo 45 'est spécialement conçue pour maximiser la dissolution et l'uniformité des gaz lors des processus de gravure, permettant ainsi un contrôle précis des taux de gravure cibles. La faible taille de la chambre permet également un contrôle précis de la vitesse de gravure à haute température. Cette capacité à haute température est utile pour la gravure de matériaux diélectriques à haut K tels que le dioxyde d'hafnium, l'oxyde d'aluminium ou les couches d'oxynitrure de silicium qui nécessitent des températures de gravure supérieures à 650℃. Kiyo 45 dispose également d'une régulation de température précise qui peut être réglée à +/- 1℃, fournissant une stabilité de température exacte pendant la gravure. Le système dispose d'une station de lavage intégrée, ce qui contribue à réduire davantage les résidus de procédé pendant le cycle de gravure. Les dernières versions de LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 offrent également des cycles de gravure entièrement automatisés pour un traitement précis du substrat. Les gaz de gravure utilisés dans ONTRAK Kiyo 45 etcher sont typiquement CF4, CHF3, O2 ou ArF, selon le matériau à graver. Un moniteur à distance optionnel de l'appareil est disponible, permettant aux utilisateurs d'accéder à une large gamme de recettes de machines et de données opérationnelles à partir de n'importe quel appareil compatible avec le Web. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH Kiyo 45 etcher/asher est capable d'un traitement précis du substrat, d'une régulation précise de la température et d'un contrôle de gravure avancé qui est idéal pour les applications de substrat à haute température. Avec des cycles de gravure automatisés et la possibilité d'accéder à une grande variété de recettes et de données opérationnelles à distance, c'est un outil efficace pour graver et aspirer les matériaux photorésistants.