Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9375193 à vendre en France
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ID: 9375193
Style Vintage: 2007
Metal etcher
(2) Chambers (PM2, 3)
With (2) Strips (PM1, 4)
MF (EFEM/TM):
Platform type: V2
(3) BROOKS 002-7200-32 Load ports
BROOKS 138150 ATM Robot
BROOKS 401600-201-0002-FRU TM Robot
EDWARDS EPX180N IPump (Ontool pump)
PM Module (PM1,2,3,4):
(3) MOTORORA CPU
(2) LAM RESEARCH 810-046015-009 VIOP
(2) LAM RESEARCH 810-099175-103 VIOP
(2) LAM RESEARCH 605-707109-001 Engenuities
(2) LAM RESEARCH 605-707109-012 Engenuities
(3) LAM RESEARCH 810-495659-303 ESC Power supplies
OCEAN OPTICS 685-801852-005 OES
OCEAN OPTICS 685-069171-002 OES
MKS 797-004456-003 VODM
MKS 797-00456R005 VODM
(2) MKS AX7695 Revolution
(2) LAM RESEARCH 839-014090-374 ESC
Gas configuration:
IGS Gas box
(17) Gas lines
(20) HORIBA SEC-Z313M Gas box MFC
(3) HORIBA SEC-Z719MGX Gas box MFC
(9) HORIBA D219-SCT Gas box MFC
(2) MKS 649A-25014 He UPC
Strip gas:
(2) HORIBA SEC-Z313M Gas 3 Ar(2000)
(2) HORIBA SEC-Z313M Gas 2 O2(5000)
(2) HORIBA SEC-Z313M Gas 1 N2(1000)
Components:
(2) MKS E28B-23747, 31802 Process gauges
(2) MKS 625A-14059 Chamber gauges
HPS 109070019-CE TM vacuum gauge
(2) TELEDYNE HPM2002-OBE-LM Air lock vacuum gauges
(2) EDWARD STP-XA2703CV Turbo pumps
(2) EDWARD SCU-1500 Turbo pump controllers
RF Gen / Matcher:
APEX APEX1513 BIAS RF Generator
APEX PARAMOUNT1513 BIAS RF Generator
APEX APEX1513 TCP RF Generators
APEX APEX2013 TCP RF Generators
LAM RESEARCH 832-038915-001 BIAS RF Matcher
LAM RESEARCH 832-038915-203 BIAS RF Matcher
LAM RESEARCH 853-034908-200 TCP RF Matcher
LAM RESEARCH 853-043759-401 TCP RF Matcher
LAM RESEARCH 834-036619-011 BIAS RF Cable
LAM RESEARCH 684-111962-001 BIAS RF Cable
LAM RESEARCH 834-036619-020 TCP RF Cable
LAM RESEARCH 834-036619-021 TCP RF Cable
2007 vintage.
LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 est un puissant graveur/asher pour substrats. Il est conçu comme un outil monobloc, permettant des processus de gravure et de cueillette précis et précis dans la fabrication courante de plaquettes. Il est équipé d'une source de radiofréquences (RF) à double source et multi-zones (RF) très performante qui permet d'effectuer simultanément des cendres à basse température et des gravures à haute température. Cela permet une excellente uniformité et répétabilité sur tous les processus lithographiques. L'outil fournit également une excellente répétabilité du motif sur la plaquette à travers une variété de substrats. ONTRAK Kiyo 45 dispose d'un équipement sophistiqué de contrôle des processus plasmatiques qui permet un réglage précis et l'uniformité sur la plaquette. Il fonctionne avec un système d'obturation avancé qui améliore le contrôle des processus et permet un transfert efficace des plaquettes. L'outil dispose également d'un spectromètre d'émission optique (OES) qui assure une surveillance en temps réel des paramètres plasmatiques, permettant un réglage en temps réel des processus de gravure et de cueillette. LAM RESEARCH Kiyo 45 est construit à partir d'acier inoxydable de haute qualité et d'alliages d'aluminium, et dispose d'une unité de refroidissement très efficace, permettant de basses températures pendant la gravure et le cendrage. L'outil utilise la dernière technologie à haute performance Turbo Pump Vacuum avec d'excellents taux de pompage et de faibles niveaux de bruit. Il dispose également d'une alimentation RF de sortie 3 bars et d'une alimentation séparée, à fréquence variable et basse fréquence. Kiyo 45 dispose d'une machine de commande sur PC avec une interface graphique moderne, permettant la télécommande et la surveillance. L'outil fournit des paramètres de processus tels que la pression de la chambre, la puissance RF, les flux de gaz et les températures. Il dispose également de fonctions de surveillance et de diagnostic avancées ainsi que d'alarmes de sécurité des actifs. LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 est conçu pour une productivité et une répétabilité optimales pour les processus de gravure et d'ashing. C'est un outil fiable et puissant pour toute application de lithographie. Avec sa construction robuste et sa technologie de pointe, il peut fournir des résultats optimaux même avec des matériaux plus difficiles.
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