Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9379095 à vendre en France

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 est un outil gaussien asher/etchant qui combine des processus de gravure et d'ashing avancés dans un seul équipement. Il est conçu pour graver et cendrer de petits substrats de taille moyenne avec une grande précision et uniformité. Le système est équipé d'un contrôle avancé des sources, d'un support pour les processus globaux et d'une multitude d'autres fonctionnalités. Le LAMONTRAK Kiyo 45 dispose d'une source de plasma gaussienne qui fournit une puissance, une pression et une densité réglables pour produire une profondeur uniforme, des flancs, des gravures de profil supérieur et des travaux de cendrage. L'unité est entièrement programmable pour la normalisation des procédés et l'amélioration du rendement du substrat. LAM RESEARCH Kiyo 45 est également équipé d'un régulateur de pression automatique (APC) pour la gravure et le cendrage contrôlés, et d'une structure de débit des gaz d'échappement (EGFS) pour assurer un fonctionnement sûr. Kiyo 45 dispose également d'une chambre de réaction conçue pour une distribution uniforme des gaz qui assure des résultats répétables de gravure et de cendrage, même sur des substrats aux géométries complexes. En outre, la machine utilise des techniques avancées de remplissage de gaz et un outil de cartographie de plaquettes pour détecter les variations de processus et assurer un processus global cohérent pour différents produits. LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45 est également conçu pour un entretien facile. La chambre est équipée d'un mécanisme de levage pour faciliter l'échange rapide des plaquettes, tandis que l'actif lui-même dispose d'une interface tactile pour permettre des changements rapides et faciles de paramètres de processus. Le modèle dispose d'une gamme de fonctionnalités avancées telles que la suite de détection pour le dépannage rapide des processus, la surveillance intégrée des processus et les capacités de réseautage. Dans l'ensemble, ONTRAK Kiyo 45 est un équipement de gravure et de cueillette avancé conçu pour fournir un processus de gravure et de cueillette complet et uniforme sur des substrats de petite à moyenne taille. Il dispose d'une gamme complète de fonctionnalités avancées pour assurer la stabilité et la répétabilité des processus, ainsi que d'une interface facile à utiliser pour le réglage et le suivi des processus.