Occasion LAM RESEARCH Rainbow 4400 #293814660 à vendre en France

ID: 293814660
Etchers (2) Load stations (2) Robot arms (5) ADIO (2) Mini matches (2) Upper and lower chamber cooling waters (6) Gas Lines and MFC (Mass Flow Controllers) CPU PCB SIO Brake Gap motor AC-2 Controller Control board Endpoint detector Load point and shuttle Chamber heating relay Heartbeat and mother PCB Gas panel and interlock Upper and lower electrodes BAF Gas distribution plate Lower chamber ceramic ring Upper chamber gas line Manometer (10 Torr) Throttle valve He Cooling Power Supply: 24V, 5V/±15V, 5V/±12V.
LAM RESEARCH Rainbow 4400 est un équipement de production classe Etch/Asher construit pour le traitement avancé des substrats et des matériaux à couches minces. Cette machine dynamique est conçue pour traiter une variété de substrats, allant du silicium et d'autres composés III-V aux métaux, céramiques et autres diélectriques. Il est conçu pour produire un ensemble de résultats de processus dans un environnement propre, comme la gravure, le dépôt de couches minces ou le traitement par voie humide. Cette technologie de pointe offre flexibilité et évolutivité pour les opérations de recherche et de production. L'arc-en-ciel 4400 est équipé d'une gamme de technologies de procédé, telles qu'une source de plasma à double source pour la gravure, de multiples systèmes de distribution de gaz pour les processus de gravure et de dépôt, et une manipulation précise des plaquettes afin de minimiser la production de particules. Ce système dispose également d'une unité d'évacuation avancée, permettant des changements rapides de processus et une meilleure répétabilité des processus. LAM RESEARCH Rainbow 4400 est capable de modeler des substrats avancés grâce à ses capacités sophistiquées d'imagerie par faisceau d'ions, qui comprennent des taches de haute résolution, une dose précise et répétable sur le terrain, et un faible bruit total de bombardement ionique. Rainbow 4400 dispose d'une machine de commande électronique de pointe et d'une suite logicielle complète. Cet outil de contrôle permet une intégration complète avec la chambre de processus, permettant à l'opérateur de gérer plusieurs chambres de processus simultanément. La suite logicielle permet aux utilisateurs de personnaliser leurs recettes et offre des capacités avancées d'enregistrement de données pour augmenter l'optimisation des processus. Une caractéristique clé de LAM RESEARCH Rainbow 4400 est sa source unique de plasma à double source, qui permet aux utilisateurs d'exécuter simultanément des processus de gravure et de dépôt. Ce procédé permet aux utilisateurs d'obtenir une grande flexibilité de procédé en éliminant le besoin de transferts de substrat longs entre les chambres de gravure et de dépôt. Cet atout offre également une gamme de capacités de contrôle de la température du substrat, permettant un contrôle précis des profils de température pour les processus sensibles. Enfin, Rainbow 4400 offre des caractéristiques de sécurité avancées telles que l'évacuation automatique des chambres, la détection d'incendie et la protection contre l'ESD. Ce modèle fournit une norme industrielle pour la production de particules et la propreté de la chambre, grâce à sa conception avancée de la chambre, son équipement de filtration puissant et ses dispositifs de sécurité embarqués. LAM RESEARCH Rainbow 4400 est un outil essentiel pour les processus avancés de gravure et de dépôt. Sa conception sophistiquée, ses fonctions de contrôle robustes et ses caractéristiques de sécurité de pointe permettent à Rainbow 4400 d'offrir des niveaux élevés de débit, de répétabilité et de flexibilité.
Il n'y a pas encore de critiques