Occasion LAM RESEARCH Rainbow 4420 #293821536 à vendre en France

LAM 4420 Plasma automatique Asher/Etcher est un outil entièrement automatisé destiné aux applications de traitement de surface à base de plasma à haut volume. Cet équipement combine la capacité d'un asher et d'un graveur en une seule plate-forme pour la commodité et les économies. 4420 utilise une source de plasma à couplage inductif (PIC) à haute puissance pour fournir un environnement de traitement extrêmement rapide et efficace avec des coûts d'exploitation faibles. LAM 4420 a un design modulaire qui permet une personnalisation facile pour diverses applications. Ceci inclut le choix soit d'une source de diffusion, soit d'une source parallèle de 150 à 800 watts de puissance. Le système contient également une chambre à vide de 20 pouces avec une option d'inclinaison horizontale et verticale variable. La chambre est équipée d'un joint torique embarqué et d'une unité de contrôle des gaz pour maintenir un processus constant de vide et de plasma. 4420 est équipé d'une machine de commande de traitement permettant aux utilisateurs de contrôler le débit de gaz, la pression de la chambre et la puissance RF avec précision et précision. En plus de ses capacités de traitement efficaces, LAM 4420 offre également une interface conviviale conçue pour répondre à divers degrés de complexité de processus. Cette plateforme dispose d'interfaces utilisateur intuitives et graphiques qui permettent aux opérateurs de personnaliser les paramètres de gravure pour chaque étape du processus et de visualiser facilement les résultats. 4420 est également compatible avec divers logiciels compatibles tels que SEMVision, LamView et SPX Tool permettent aux utilisateurs d'accéder à des fonctions avancées de contrôle, de collecte et d'analyse de données et de validation de processus. Les sources parallèles et de diffusion de LAM 4420 fournissent une source de plasma fiable et sans contact pour la gravure et la gravure ionique réactive (RIE) afin de contrôler indépendamment les propriétés de la surface. Cette fonctionnalité permet aux utilisateurs de contrôler précisément le processus de gravure jusqu'à quelques nanomètres. En outre, 4420 dispose de plusieurs boîtes à gaz, permettant aux utilisateurs de passer à une variété de gaz de procédé et d'utiliser jusqu'à trois mélanges de gaz distincts avec des temps d'arrêt minimisés. LAM 4420 a été utilisé avec succès dans de nombreuses applications de laboratoire et de production, allant de la gravure de cellules solaires et de dispositifs semi-conducteurs à des applications de lithographie. Cette capacité flexible permet aux utilisateurs d'obtenir le mélange optimal de taux de gravure et de sélectivité. En outre, cette plate-forme conviviale est livrée avec de nombreuses fonctionnalités de sécurité, y compris un actif d'interlock embarqué, un modèle de protection des utilisateurs basé sur Windows, et des conceptions de cellules optimisées pour la sécurité.