Occasion LAM RESEARCH Rainbow 4420 #63700 à vendre en France

ID: 63700
Taille de la plaquette: 6"-8"
Style Vintage: 1996
Dry oxide etcher, 6" Classic OS Hine Indexers Clamped Optical Endpoint On Board AE RFG 1250 RF Generator RF Mini Match 8 Stick Orbital Gas Box CE Marked.
LAM RESEARCH Rainbow 4420 est un graveur plasma haut de gamme conçu pour fournir un contrôle précis et répétable du profil et de la vitesse de gravure sur une large fenêtre de processus. L'équipement est idéal pour la fabrication de substrats microélectroniques performants tels que des interconnexions multi-niveaux, MEMS, et diverses autres applications nécessitant une gravure plasma à haut débit. L'arc-en-ciel 4420 utilise une chambre de gravure à grande échelle à recouvrement de surface qui est basée sur une pression atmosphérique en boucle fermée (APC), des sources de plasma RF contrôlé par induction (IDEP), des stations de gravure avancées, la manutention des plaquettes et des solutions d'automatisation. Il dispose d'une technologie avancée de nettoyage in situ, ainsi que d'une capacité de gravure sèche/humide/mélange. En plus d'un plateau de type scanner x-y, le système utilise une unité de surveillance de surface in situ à grande vitesse (ISMS) qui détecte les variations des paramètres de gravure, tels que la vitesse de gravure du plasma, l'uniformité et le contrôle du profil. Cette machine comprend également la dernière technologie de gravure à haut débit, réduisant le temps de gravure pour la structure de surface 3D. La robustesse de la fabrication de l'outil garantit que sa performance n'est pas affectée par les produits chimiques corrosifs, et qu'il peut fonctionner à des températures allant jusqu'à 300 degrés Celsius (572 degrés Fahrenheit). L'actif fabrique des gravures linéaires et circulaires de haute qualité, haute vitesse, à l'échelle nanométrique, avec une excellente uniformité et répétabilité de la vitesse de gravure sur toute la zone de gravure. Le modèle est équipé de dispositifs de sécurité pour offrir un environnement de travail sûr et respecter des règles de sécurité strictes. RECHERCHE LAM Rainbow 4420 soutient diverses chimies de gravure, y compris CF4, CHF3, C2F6 et SF6, ainsi que d'autres matériaux à base de photorésist et de polymère. Rainbow 4420 permet à l'utilisateur de choisir parmi un large éventail d'options de gravure et de chimies, tout en fournissant un processus de gravure fiable et puissant. L'utilisateur a également la possibilité de sélectionner un large éventail de paramètres de traitement tels que la température, la pression et le débit, ainsi que la capacité d'effectuer des opérations de maintenance. LAM RESEARCH Rainbow 4420 fournit aux utilisateurs un processus de gravure efficace et fiable pour produire des structures à plusieurs niveaux très précises avec des propriétés de surface supérieures et une excellente qualité de gravure. Avec sa conception robuste, ses caractéristiques de sécurité et ses capacités de manipulation robustes des processus et des substrats, l'équipement est adapté à une large gamme d'applications microélectroniques de haute performance.
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