Occasion LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9262992 à vendre en France
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Vendu
ID: 9262992
Taille de la plaquette: 8"
Plasma etcher, 8"
Thru-the-wall (TTW)
Status lamp
SECS I Interface
Cassette interface: (2) HINE 38F indexers Electrostatic Chuck (ESC)
Endpoint detection: Monochromator 405nm / 520nm
Turbo: SEIKO SEIKI STP H200C
RF Match type: LAM
RF Generator: ENI OEM-650A
RF Hours: 402056
Gas Box:
Orbitally welded GB
Backside cooling MFC: 1250A
No remote gas box
Gases:
N2, 200 sccm, unit 1200A
CHF3, 50 sccm, unit 1200A
N2, 300 sccm, area
N2, 500 sccm, unit UFC 1660
CF4, 150 sccm, unit 1200A
SF6, 150 sccm, unit 1200A
He, 1 slm, unit UFC 1660
O2, 200 sccm, unit UFC 1660
Pump:
Pump controller: iQ Series entrance
Exit: EDWARDS iQDP-40
Main: EDWARDS iQDP-80
(2) SMC HRS018-WN-20-M Chillers
On-board AC Distribution type: Fused
No heated pumping manifolds
No high conductance Manifold
No ATM passivation module
No remote RF cart
No on-board RF generator
Chiller and RF included
Does not include vacuum pump
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 5-Wire.
RECHERCHE LAM Rainbow 4420 etcher/asher est un instrument de haute performance et de précision conçu pour réduire l'érosion, modifier et créer des motifs complexes sur une grande variété de substrats. Rainbow 4420 est un graveur/asher très polyvalent, capable de traiter une variété de matériaux dont le quartz, le silicium, l'arséniure de gallium et d'autres matériaux semi-conducteurs. RECHERCHE LAM Rainbow 4420 utilise des techniques et des technologies de pointe, telles que l'ablation laser, la gravure assistée par faisceau d'ions, la gravure ionique réactive et le dépôt chimique en phase vapeur, pour produire des résultats exigeants. Doté d'une large gamme de capacités et de fonctions de traitement spécifiques à une application, Rainbow 4420 est conçu pour répondre aux exigences spécifiques de processus d'une variété d'applications électroniques et semi-conductrices, y compris la formation de couches ultra-minces de matériau électriquement conducteur. Avec ces capacités avancées et une réputation de fiabilité et d'efficacité, LAM RESEARCH Rainbow 4420 est une solution de premier plan pour les demandes de gravure et d'ashing nécessitant une précision et une répétabilité ultra fines. Rainbow 4420 offre une combinaison impressionnante de performance et de flexibilité. Sa conception modulaire garantit une configurabilité optimale pour chaque application et l'architecture de plate-forme ouverte de l'équipement facilite l'échange rapide et l'optimisation des paramètres locaux. Équipé d'un puissant système d'analyse configurable des plaquettes, LAM RESEARCH Rainbow 4420 permet de mesurer et d'analyser avec précision la qualité des résultats de gravure et d'ashing en temps réel. Rainbow 4420 dispose d'une unité mécanique très fiable et d'une gamme polyvalente d'options de chambre à vide pour s'adapter à différents processus, y compris le traitement par lots, monowafer et en ligne. Pour assurer la stabilité du procédé et réduire les sources de non-uniformité induite par la machine, LAM RESEARCH Rainbow 4420 utilise des systèmes avancés de contrôle et de gestion de la température. L'outil peut également être fourni avec un programme d'étalonnage automatique pour assurer un réglage optimal des actifs et des performances. Idéal pour les besoins de gravure et d'ashing haut de gamme, Rainbow 4420 peut être chargé avec jusqu'à 12 recettes de processus, permettant la création de séquences de processus complexes avec facilité. Pour une précision opérationnelle et une répétabilité maximales, LAM RESEARCH Rainbow 4420 est équipé de deux sources de plasma indépendantes qui peuvent être utilisées pour la gravure et le cendrage. La fonction de surveillance de fin de processus de haute précision permet d'éviter les gravures et les cendres excessives, et son obturateur de haute précision facilite la reproductibilité à +/- 0,2 micron. Avec ses spécifications techniques avancées, Rainbow 4420 fournit à l'industrie une solution puissante et précise pour les applications de gravure et d'ashing dans un large éventail d'industries.
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