Occasion LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9411613 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9411613
Taille de la plaquette: 6"
Plasma etcher, 6"-8" EDWARDS iQDP80 / QMB500 Pump chamber Indexer type: Hine 38A, 6"-8" Robot type: Harmonic drive Robot blade: AL, 6"-8" EMO Button guard ring FST Chiller CRT Monitor Chamber type: Standard Process: Plasma cleaner Controller: 32-Bit Microprocessor with CRT AL Anodize Source type: Plasma system RF Power: OEM-12A Photodiode optical Endpoint AC2 Pressure control Temp control: Chiller Chuck Type: Mechanical clamp, 6" Match: Manual Gases: Model / SSCM / Gas UFC-1200 / 100 SCCM / O2 UFC-1200 / 300 SCCM / O2.
LAM RESEARCH Rainbow 4420 est un graveur/asher qui offre une précision et une productivité inégalées dans les applications de semi-conducteurs. Rainbow 4420 dispose d'une large gamme de fonctionnalités avancées conçues pour maximiser le débit, y compris un équipement de contrôle puissant, une variété de recettes de gravure, et un contrôle précis de la température et de la pression. La conception robuste du système permet une plus grande précision et la cohérence des résultats de gravure et d'ashing. RECHERCHE LAM Rainbow 4420 offre aux utilisateurs la flexibilité de choisir entre une seule gravure ou des cycles de gravure/cendres simultanés, selon le processus souhaité. Plusieurs opérations peuvent également être combinées en une seule opération. La machine de contrôle de l'unité dispose d'une interface utilisateur intuitive, permettant une configuration rapide de la recette, des réglages de paramètres et l'enregistrement des données pour une optimisation maximale du processus et la traçabilité. Les chambres à double processus de l'outil permettent l'exécution simultanée de processus de gravure multiples, avec un atout de livraison de gaz distinct pour chaque chambre. Rainbow 4420 dispose également d'un modèle unique de contrôle de l'atmosphère, qui utilise un équipement avancé de contrôle du débit de gaz RF pour fournir un contrôle précis du débit de gaz et un refroidissement uniforme de la chambre. Le système dispose également d'une unité de refroidissement avancée pour maintenir des températures constantes dans la chambre, permettant d'obtenir des résultats de plaquette reproductibles et précis. LAM RESEARCH Rainbow 4420 etcher/asher a une capacité de vide de 1 Torr et une plage de température de processus serrée de -15 ° à + 30 ° Celsius. Plusieurs recettes de gravure/cendres peuvent être créées et stockées, chaque recette ayant des paramètres réglables tels que la précision de gravure, le taux, la température et le timing. La machine offre également une gamme de différents gaz de gravure, permettant la gravure de plus de 20 matériaux différents dont le silicium polycristallin, le nickel et l'aluminium. L'outil comporte également des dispositifs de sécurité avancés pour protéger le personnel et l'équipement, comme un dispositif d'interception RF pour prévenir le brouillage accidentel des radiofréquences. Rainbow 4420 est conçu pour être extrêmement économe en énergie, avec une consommation totale d'énergie estimée à 14 kWh par heure de gravure. L'unité dispose également d'un ventilateur intégré et d'un modèle d'alarme qui alertent le personnel si l'équipement se rapproche de sa capacité maximale. LAM RESEARCH Rainbow 4420 etcher/asher est un système de pointe idéal pour les laboratoires, les entreprises et les universités qui cherchent à maximiser la productivité et la précision dans leurs opérations de gravure et d'ashing. Cet outil de grande capacité fournit des résultats précis et reproductibles, permettant aux installations de produire rapidement et de manière fiable des plaquettes et/ou des composants. Avec sa facilité d'utilisation, sa conception robuste et son contrôle de précision, Rainbow 4420 est un excellent choix pour ceux qui cherchent à maximiser la productivité dans leurs opérations de gravure et d'ashing.
Il n'y a pas encore de critiques