Occasion LAM RESEARCH Rainbow 4501 #9196384 à vendre en France

RECHERCHE LAM Rainbow 4501 Asher/Etcher est un équipement de gravure de plasma et de traitement de gaz chimiques hautement productif, avancé et à haut débit. Cette plate-forme offre un design innovant de haute cavité, permettant aux substrats gravés et cendrés de subir un traitement simultané, ce qui entraîne une amélioration significative du débit et du rendement. Le système offre une excellente précision de commande, avec une précision de +/- 5nm et un mandrin auto-aligneur sub-micron qui peut manipuler des plaquettes jusqu'à 300 mm de diamètre. Cette unité est équipée d'une grande interface utilisateur, intuitive et graphique, et dispose d'un processus hautement automatisé et reproductible qui permet une uniformité répétable et un fonctionnement facile. Rainbow 4501 a une source de résonance cyclotron d'ions négatifs (RNH) très efficace qui fournit simultanément des ions, des radicaux et d'autres espèces avec une grande souplesse de procédé et une grande sélectivité, permettant à la machine de répondre aux exigences de diverses applications. Pour les applications externes à basse température, l'outil peut être configuré avec un robot pour traiter jusqu'à trois chambres de processus simultanément. L'actif offre une flexibilité de processus étendue avec l'accès à une large gamme de produits chimiques de processus, y compris la gravure, l'ashing, le rainurage et le nanobumping. Il offre une productivité élevée avec des taux allant jusqu'à 500 plaquettes par heure et est capable de traiter plusieurs échantillons avec différents processus en un seul cycle de processus. Il dispose également de choix et d'entretien efficace de plusieurs gaz et de la chimie des cendres. Ce modèle est livré avec du matériel informatique intégré et des logiciels pour une programmation facile des recettes et de la gestion de l'équipement. RECHERCHE LAM Rainbow 4501 est capable de fournir un contrôle de profil supérieur avec une gravure de faible angle et de haut rapport d'aspect. Il présente une homogénéité supérieure avec des niveaux d'homogénéité de 2 sigma +/3 sigma +/4 sigma et une plage de régulation de température de 68 ° C à 550 ° C Il offre également une large gamme de contrôle de température et de pression, permettant des processus avec des températures allant jusqu'à 600 ° C et des pressions allant jusqu'à 500 Torr. En outre, le système offre un excellent contrôle des particules et la gestion de la durée de vie avec des systèmes de filtration avancés fournissant l'environnement propre nécessaire et un contrôle de processus supérieur. Il en résulte une unité robuste conçue pour fournir le meilleur contrôle de rapport d'angle et d'aspect possible et un contrôle précis de la température et de la pression.