Occasion LAM RESEARCH Rainbow 4520 #9221215 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9221215
Taille de la plaquette: 8"
Oxide etcher, 8" Includes: PDW-2200 RF Generator CMH-11S02 Process manometer Reference manometer CMLA-21 Heat pressure manometer UPC-1300 He UPC 839-013901-001 Pressure control valve AC-2S06 AC2 Controller MFC: Channel / Gas / Scale 1 / AR / 1000 2 / CF4 / 400 3 / CFHF3 / 100 4 / HE / 1000 5 / O2 / 20 6 / N2 / 100.
LAM RESEARCH Rainbow 4520 est un équipement de graveur et asher de pointe idéal pour les applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Il offre la capacité de graver et d'asher des couches de silicium, de métaux et de matériaux organiques dans des plaquettes d'une taille allant jusqu'à 300mm. Rainbow 4520 utilise une source sophistiquée de plasma linéaire inductif couplé (LICP) pour créer des résultats de processus hautement reproductibles et homogènes. La source LICP peut être accordée pour produire les paramètres plasmatiques désirés pour le processus de gravure ou de cueillette, allant de 0 à 500 W pour la gravure et de 0 à 200 W pour la cueillette. La technologie avancée de manutention et de transport des plaquettes est utilisée pour assurer un chargement précis des plaquettes, et le système est équipé d'un mécanisme de contrôle automatique de l'expansion des dalles de plasma (APS) qui prévient les problèmes de chargement du plasma couramment associés aux opérations de nettoyage des chambres. La chambre de LAM RESEARCH Rainbow 4520 a un volume de procédé maximal de 360 litres, et est entourée d'un générateur RF pour diminuer les dépôts d'espèces voyous sur les parois de la chambre, ce qui contribue à sa fiabilité. En outre, plusieurs options de pré-nettoyage de chambre et de nettoyage en place sont disponibles pour assurer les niveaux les plus élevés de répétabilité dans les résultats de processus. La machine utilise également une gamme de régulateurs de pression et de débit pour maintenir un environnement contrôlé avec précision dans la chambre. Les niveaux de vide peuvent être réglés à un minimum de 1 mTorr, assurant la pression de base la plus basse possible pour le processus de wafer. Rainbow 4520 est capable d'utiliser avec précision une gamme de gaz de procédé tels que l'argon, SF6, l'oxygène, N2, O2 et NF3, tels que définis par la recette de procédé. LAM RESEARCH Rainbow 4520 dispose également de dispositifs d'affichage numériques et analogiques ainsi que d'un logiciel pour le développement de recettes avancées, permettant à l'utilisateur d'obtenir des résultats de gravure et d'ashing reproductibles et de haute qualité. L'unité est également capable de suivre et d'enregistrer les processus au cours d'un cycle de recette et fournit des fonctionnalités avancées, telles que la protection contre les surpressions, la cartographie des fenêtres de processus et la conception de plateaux doubles pour améliorer la répétabilité des nettoyants, garantissant ainsi des rendements de processus élevés. La machine a été conçue et testée pour une répétabilité et une précision à très long terme et peut être contrôlée via une console à distance, ce qui élimine la nécessité pour les utilisateurs d'être à proximité. Rainbow 4520 est la solution idéale pour la production avancée de dispositifs semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques