Occasion LAM RESEARCH Rainbow 4XXX series #9176782 à vendre en France

LAM RESEARCH Rainbow 4XXX series
ID: 9176782
Pump and frame Currently crated.
LAM RESEARCH La série Rainbow 4XXX est un type d'équipement de graveur/asher à plasma. Ce système est conçu pour graver un large éventail de matériaux, y compris des semi-conducteurs, des métaux, des isolants et d'autres matériaux difficiles. La série Rainbow 4XXX utilise une variété de techniques pour atteindre le profil de gravure souhaité qui comprend la gravure plasma, le broyage ionique, la gravure ionique réactive et le broyage ionique réactif. Il offre un haut degré de contrôle sur les paramètres de gravure, y compris le niveau d'énergie, la vitesse de balayage, le taux de répétition des motifs et la sélectivité. Les principaux composants de cette unité sont la surface cible, l'alimentation d'entrée, l'alimentation RF, la source de plasma et la chambre d'échappement. La surface cible est la surface à graver et est généralement un semi-conducteur ou une surface métallique. L'alimentation d'entrée contrôle le flux de courant électrique vers l'alimentation RF. L'alimentation RF génère le champ RF nécessaire à la création du plasma. La source de plasma est la source des particules énergétiques utilisées pour graver la surface cible. Enfin, la chambre d'échappement est utilisée pour évacuer en toute sécurité les particules de la machine de gravure. Le procédé de gravure par plasma est basé sur un bombardement ionisé de la surface cible à l'aide de particules sous tension. L'alimentation RF génère un champ électrique sur la surface cible. Ce champ électrique accélère les particules à des vitesses élevées et les particules frappent la surface cible brisant les liaisons entre atomes et molécules. Ce procédé permet d'éliminer une ou plusieurs couches multicouches de matériau de la surface cible. La série Rainbow 4XXX de LAM RESEARCH propose une variété de techniques de gravure, dont la gravure ionique réactive profonde, la gravure plasma haute densité et la broyage ionique. La gravure ionique réactive profonde (DRIE) est utilisée pour graver plusieurs couches de matériaux tout en optimisant la sélectivité. Cette technique implique une série de cycles de gravure où les ions frappent la surface cible avec des niveaux d'énergie croissants. Gravure plasma haute densité (HDPC) est une forme de gravure plasma utilisée pour graver des couches de matériau très minces. Le broyage ionique est une technique de gravure à faible énergie utilisée pour créer des caractéristiques précises. La série Rainbow 4XXX offre de nombreux avantages, notamment des taux de gravure élevés, une faible consommation de produits chimiques de gravure, un faible coût d'exploitation et moins de temps d'arrêt que les autres systèmes de gravure. En outre, sa taille compacte et sa facilité d'utilisation le rendent idéal pour l'industrie des semi-conducteurs. La série Rainbow 4XXX de LAM RESEARCH offre aux utilisateurs un outil fiable pour graver avec précision une variété de matériaux, ce qui en fait un choix idéal pour une variété de procédés de fabrication.
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