Occasion LAM RESEARCH SEZ 223 #293658158 à vendre en France

LAM RESEARCH SEZ 223 est un graveur de plasma et asher. Cette machine est conçue pour graver et nettoyer avec précision les plaquettes semi-conductrices dans une atmosphère contrôlée comprenant à la fois la gravure ionique réactive (RIE) et le dépôt chimique en phase vapeur métallique organique (MOCVD). SEZ 223 utilise un équipement plasma RF haute densité qui fournit un milieu idéal pour des opérations de gravure et de nettoyage efficaces. LAM RESEARCH SEZ 223 est équipé d'une source de traitement ICP (Inductively Coupled Plasma), composée de quatre canaux RF réglables individuellement pour un contrôle accru du plasma. Cela permet d'obtenir des résultats de gravure précis avec des distributions d'énergie ionique améliorées et une meilleure uniformité des surfaces des plaquettes. La source ICP est capable de générer jusqu'à 8 000 watts de plasma avec une pression de base de 10 mTorr, et peut être maintenue à moins de 1 mTorr de la pression de gravure de la cible et 10 kHz de la fréquence RF de la cible. La SEZ 223 est équipée d'un système de distribution de gaz capable de traiter trois conduites de gaz pour un contrôle précis de la pression, jusqu'à 5 sources de gaz, et des rapports précis de gaz pour obtenir les résultats de gravure souhaités. Cette unité assure des vitesses de dépôt et de gravure précises, permettant un contrôle précis du processus de gravure. La machine sophistiquée de manutention des plaquettes de LAM RESEARCH SEZ 223 est conçue pour s'intégrer aux plateformes FOUP. Il permet le chargement et le déchargement précis des plaquettes, leur orientation et leur rotation à grande vitesse tout en assurant une intégration complète avec les modules de processus PECVD, RIE et CMP. La chambre de SEZ 223 est conçue pour produire les plus faibles taux de chargement des particules et de la chambre, ce qui permet de réduire les taux de défauts dans les tranches traitées finales. La conception permet également un refroidissement efficace et l'accumulation de vide pour un meilleur débit. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH SEZ 223 est hautement optimisé pour la gravure et le cendrage. Sa puissante source ICP, son outil précis de distribution de gaz, son outil sophistiqué de manutention des plaquettes et sa chambre à faible contamination le rendent idéal pour le traitement efficace des plaquettes semi-conductrices.