Occasion LAM RESEARCH / TALUS TE-324 #293814072 à vendre en France

LAM RESEARCH/TALUS Metal etcher est un équipement de pointe conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Cet équipement de pointe est connu pour sa précision, sa fiabilité et son efficacité dans les applications de gravure et d'ashing dans la fabrication de circuits intégrés (IC) et d'autres composants électroniques. TALUS Metal etcher utilise une combinaison de techniques de gravure plasma et d'ashing pour enlever sélectivement le matériau d'une surface de substrat, assurant une fidélité élevée aux motifs et un contrôle des processus. Ce système est équipé de technologies de procédé avancées qui lui permettent de graver et de cendrer divers métaux, diélectriques et autres matériaux couramment utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Les composants clés de LAM RESEARCH Metal etcher comprennent une chambre à vide, une unité de distribution de gaz, une source d'énergie RF, un ensemble d'électrodes et une machine de commande avancée. La chambre à vide offre un environnement contrôlé pour le processus de gravure/cueillette, minimisant la contamination et maintenant la pureté du processus. L'outil de distribution des gaz contrôle précisément l'écoulement des gaz de procédé tels que CF4, SF6, O2 et Ar, qui sont utilisés pour créer des espèces réactives dans le plasma pour l'élimination des matières. La source d'énergie RF génère le plasma nécessaire à la gravure/cueillette en appliquant de l'énergie radiofréquence aux gaz de procédé dans la chambre. L'ensemble des électrodes, qui comprend les électrodes supérieure et inférieure, facilite la répartition uniforme du plasma et des ions sur la surface du substrat, assurant une gravure/cueillette uniforme sur l'ensemble de la plaquette. L'actif de contrôle avancé régule les paramètres du processus tels que les débits de gaz, la pression, la température et la puissance RF pour obtenir des conditions de processus optimales et les résultats de gravure/cueillette souhaités. Etcher métallique offre une large gamme de capacités de processus, ce qui le rend adapté à diverses applications de fabrication de semi-conducteurs. Il peut être utilisé pour graver/aspirer des couches métalliques, des matériaux diélectriques, des oxydes, des nitrures, du silicium polycristallin et d'autres matériaux couramment trouvés dans les procédés de fabrication d'IC. Le modèle est également très configurable, ce qui permet aux utilisateurs d'adapter les recettes et les paramètres de traitement en fonction des exigences spécifiques du matériau et des objectifs du processus. L'un des principaux avantages de LAM RESEARCH/TALUS Metal etcher est son haut débit et son efficacité, grâce à sa technologie plasma de pointe et à son contrôle optimisé des processus. L'équipement est capable d'atteindre des taux de gravure et une uniformité élevés, ce qui permet d'obtenir des performances et un rendement constants. En outre, l'équipement est conçu pour faciliter l'entretien et l'entretien, minimisant les temps d'arrêt et assurant un temps de disponibilité maximal pour les opérations de production. En résumé, TALUS Metal etcher est un système de graveur/asher technologiquement avancé qui offre des solutions de gravure/ashing précises et fiables pour la fabrication de semi-conducteurs. Avec ses caractéristiques de pointe, ses capacités de processus polyvalentes et son rendement élevé, cet équipement est un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des performances et un rendement de production supérieurs.