Occasion LAM RESEARCH TCP 9400 DSIE #293737748 à vendre en France

ID: 293737748
Taille de la plaquette: 8"
ICP Etcher, 8" Gas chamber 1: MFC / Gases / Size 1 / SF6 / 700 SCCM 2 / C4F8 / 300 SCCM 3 / CHF3 / 200 SCCM 4 / CF4 / 200 SCCM 5 / O2 / 100 SCCM 6 / N2 / 100 SCCM 7 / He / 400 SCCM 8 / Ar / 200 SCCM Gas chamber 2: MFC / Gases / Size 1 / SF6 / 300 SCCM 2 / C4F8 / 300 SCCM 3 / CHF3 / 200 SCCM 4 / CF4 / 200 SCCM 5 / O2 / 100 SCCM 6 / N2 / 100 SCCM 7 / He / 400 SCCM 8 / Ar / 200 SCCM.
LAM RESEARCH TCP 9400 DSIE est un équipement de graveur/asher très avancé conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Cet outil est spécialement conçu pour les procédés précis de gravure et de nettoyage nécessaires à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le TCP 9400 DSIE intègre une technologie de pointe pour offrir un contrôle supérieur des processus, une productivité élevée et des performances exceptionnelles dans un environnement de salle blanche. Une des caractéristiques clés de LAM RESEARCH TCP 9400 DSIE est sa capacité de gravure à double source à plasma inductif (ICP). Cette technologie permet la génération de plasma haute densité, permettant une gravure précise et uniforme de divers matériaux utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. La conception à double source offre une flexibilité dans la gravure de différents matériaux et structures, ce qui la rend adaptée à un large éventail d'applications. Le système est équipé de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus pour garantir des résultats de gravure cohérents et reproductibles. La détection en temps réel du point d'arrêt, le contrôle de la température de la chambre, le contrôle du débit de gaz et la régulation de la pression sont quelques-unes des caractéristiques qui contribuent à la haute précision du contrôle du processus de l'unité. Ces capacités permettent d'optimiser les paramètres de gravure et de minimiser la variabilité des processus, ce qui améliore les performances et le rendement des appareils. TCP 9400 DSIE offre également une gamme d'options de chimie des gaz réactifs pour soutenir une variété de processus de gravure. La machine peut accueillir de multiples gaz de procédé, tels que des chimistries à base de fluor, de l'oxygène, du chlore et d'autres gaz de spécialité, pour répondre aux exigences spécifiques de différentes structures de dispositifs semi-conducteurs. L'outil de distribution de gaz est conçu pour un mélange précis et un contrôle du débit, assurant une utilisation efficace des gaz de procédé et des performances cohérentes du procédé. En plus de ses capacités de gravure, LAM RESEARCH TCP 9400 DSIE est équipé d'une fonctionnalité de cendrage avancée pour l'élimination des résidus et le nettoyage des surfaces des plaquettes. L'actif utilise une combinaison de cendres plasmatiques et de chimie des gaz réactifs pour éliminer efficacement les contaminants organiques et inorganiques des surfaces des plaquettes. Ce processus de nettoyage est essentiel pour maintenir la qualité des plaquettes et assurer la fiabilité des dispositifs semi-conducteurs. Le modèle est conçu en tenant compte de la productivité et du temps disponible, avec un équipement de manutention de plaquettes à haut débit et des fonctions de contrôle automatisé des processus. Le système de manutention des plaquettes peut accueillir une gamme de tailles et de types de plaquettes, permettant un traitement efficace de plusieurs plaquettes en un seul lot. La gestion automatisée des recettes, le diagnostic de l'unité et les fonctionnalités de maintenance améliorent encore le temps de disponibilité de la machine et l'efficacité opérationnelle. Dans l'ensemble, le TCP 9400 DSIE est un outil de pointe de graveur/asher qui offre des performances, un contrôle de processus et une fiabilité inégalés pour la fabrication de semi-conducteurs. Sa technologie de pointe, ses capacités polyvalentes et son interface conviviale en font un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des rendements et une qualité élevés dans leurs processus de fabrication d'appareils.
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