Occasion LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9177741 à vendre en France
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Vendu
ID: 9177741
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Metal etcher system, 8"
Software version: Version E1.5-released
Software envision: 1.5 With light pen
Process METAL ETCH
Platform type: Rainbow stand-alone TCP 9600SE
Wafer shape: SNNF
Main chamber: TCP 9600SE
Enterance loadlock: Standard entrance loadlock chamber
Exit loadlock: DSQ Chamber with 8″ paddle
APM Chamber: (2) APM DI Nozzles, N2 splayer
Load station: Belt type shuttle
Indexers: 38A Hine indexers
Wafer alinger: Universal
Upper chamber body: TCP 9600se
Gap: 6CM Upper chamber fixed gap
Electrostatic chuck type: 8″ Bi-polar ESC
Turbo pump: ALCATEL 1300M with Controller
Pressure manometer: Millipore 100mT
Pressure controller:
VAT Gate valve
PM7 Pressure controller
End point: Detector heated port
With dual channels (261.8nm/ 703nm)
Matchers:
Auto tuner
T Matcher for upper
(8) Turn RF coil matcher for Bias
Generators on board: AE-1250 For upper and bias chamber
Helium back side cooling 50sccm UPC (Unit 8130)
ADIO Boards
Main board
ESC Power supply:
(16) Channel heater controllers
Chamber: Auto tune DSQ strip module
Funnel: 8″ Quartz funnel
Paddle: 8″ Heated Paddle
Hardware configuration:
Pressure controller: AC2 Pressure controller
Pressure manometer: MKS 10TORR
WVDS: Auto fill WVDS controller
WVDS Temperature controller: Auto temp controller
Cooling fan hinged DSQ stripper
With high flow cooling fan
Vapor controller: TYLAN 500sccm H2O Controller
RF Tuner:
(8) Tunes
RF Coil matcher (DIP-PCB RF Tuner)
RF Generator on board: AE-1250
Heater controller: 853-015771-001
Spinner: 853-015759-102
DI Water nozzles:
Hot
Cold high water flow nozzles
Line 1: Gas CL2
Line 2: Gas BCL3
Line 3: Gas Ar
MFC Size: 200sccm (Unit 1660)
Line 4: Gas CF4
Line 5: Gas N2
Line 6: Gas O2
Line 7: Gas CF4
Line 8: Gas H20
EMCP*01 Part list:
(1) Transporter Exit loadlock: DSQ Chamber with 8″ Paddle
(1) Transporter APM Chamber: (2) APM DI nozzles, N2 splayer
(1) Transporter Wafer alinger universal
(1) Main chamber Electrostatic chuck type: 8″ Bi-polar ESC
(1) Main chamber Pressure manometer: Millipore 100mT
(1) Main chamber End point detector: Heated port with dual channels (261.8nm/ 703nm)
(1) Main chamber Matchers: Auto tuner/ T Matcher for upper, (8) Turn RF coil matcher for Bias
(2) Main chamber Generators on board: AE-1250 For upper and bias chamber
(1) Main chamber Helium back side: Cooling 50sccm UPC (Unit 8130)
(8) Main chamber ADIO Boards
(1) Main chamber Main board
(1) Main chamber ESC Power supply
(2) Main chamber (16) Channel heater controllers
(1) PLL Chamber Paddle: 8″ Heated paddle
(1) PLL Chamber WVDS Auto fill WVDS controller
(1) PLL Chamber Vapor controller: TYLAN 500sccm H2O Controller
(1) PLL Chamber RF Generator on board: AE-1250
(1) PLL Chamber Heater controller: 853-015771-001
(1) PLL Chamber Spinner 853-015759-102
Currently warehoused
2000 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 SE est un graveur, ou asher, conçu pour être utilisé dans le processus de production de semi-conducteurs. Cet graveur est spécialement conçu pour les procédés de gravure chimique, physique et abrasive. C'est un outil de gravure humide entièrement automatisé avec une chambre de processus programmable, un équipement de distribution de liquide et un système mécanique très fiable, durable et robuste. Il dispose d'une chambre de traitement de 250 mm x 250 mm qui peut traiter les substrats diélectriques et métalliques. LAM RESEARCH TCP 9600SE est équipé d'une unité de livraison de douche à jet unique qui offre une sélectivité de gravure supérieure et des résultats de gravure uniformes. Il dispose également d'une chambre de procédé intégrée et étanche permettant un mouillage rapide et efficace des plaquettes et des lèvres coverses. La chambre de procédé est maintenue à une pression, une température et une humidité contrôlées afin d'obtenir des résultats de gravure supérieurs. En outre, TCP 9600 SE est conçu avec une machine de contrôle avancée qui permet un contrôle précis des paramètres de gravure tout au long du processus. Cet outil peut être programmé pour recueillir des données de plus de 20 points différents de paramètres de processus. Ces données peuvent ensuite être utilisées pour surveiller soigneusement les paramètres de gravure, ce qui permet d'optimiser les résultats de gravure. En outre, TCP 9600SE offre également une variété de caractéristiques de sécurité. Les capteurs de pression et de température intégrés de la chambre, ainsi que le matériel d'échappement sec de la chambre, peuvent contribuer à assurer la sécurité du personnel et l'intégrité du produit. LAM RESEARCH TCP 9600 SE dispose également de nombreux embouts de sécurité, y compris des garde-corps et des embouts à débit maximal. LAM RESEARCH TCP 9600SE est compatible avec la majorité des produits chimiques de gravure, notamment le KOH, le TMAH, l'hydroxyde de tétra-éthyl ammonium (TEAOH) et l'acide fluorhydrique. Il peut également être utilisé avec une grande variété de substrats tels que Si, GaAs et alumine. TCP 9600 SE est destiné à être utilisé dans le processus de production de semi-conducteurs et offre une meilleure sélectivité de gravure, uniformité et sécurité. Il est conçu pour une large gamme de matériaux de substrat et de chimies de gravure, permettant d'optimiser les résultats de gravure.
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