Occasion LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9228027 à vendre en France

LAM RESEARCH TCP 9600 SE
ID: 9228027
Taille de la plaquette: 8"
Etcher, 8" APM Function RF Matcher.
LAM RESEARCH TCP 9600 SE est un équipement plasma Asher/Etcher à haut rapport d'aspect. C'est un système de gravure de plasma thermique et chimique basé sur la technologie TCP de Macrosolver. Cette unité de gravure fournit un transfert de motif de précision ainsi qu'une optimisation topographique supérieure. Il est capable de générer des profils de gravure d'une profondeur supérieure à 10 microns avec un rapport d'aspect élevé. LAM RESEARCH TCP 9600SE a également la capacité de faible résistance de contact par adhésion moléculaire. TCP 9600 SE est le mieux adapté pour les matériaux avancés et les applications d'ingénierie avec un rapport d'aspect élevé et des tailles de caractéristiques de ratio d'aspect élevé. C'est la machine parfaite pour la fabrication avancée, l'automobile, l'électronique de puissance et les applications de matériaux. Le rapport d'aspect élevé et la faible résistance de contact qu'il offre en font une machine de gravure et de dépôt polyvalente pour les clients qui demandent précision et vitesse. TCP 9600SE dispose de trois chambres de sources indépendantes pour l'acheminement des gaz réactifs et d'un grand générateur RF haute pureté à 5 cibles pour la gravure de précision. La chambre de procédé à quartz de 4 pouces de diamètre, isolée et de haute pureté, assure la plus grande uniformité, de faibles niveaux de particules et des temps de récupération rapides. Un outil avancé d'imagerie vidéo haute résolution permet un contrôle complet de la fenêtre de processus wafer-by-wafer. De plus, la technique intégrée d'arc cathodique à deux canons permet un dépôt uniforme et efficace de chrome dur/cobalt de haute pureté Ti, TiN, AlN, Al2O3 et PVD. LAM RESEARCH TCP 9600 SE est équipé de l'outil propriétaire de contrôle des processus (PCT) de LAM pour acquérir une expérience complète des performances répétables et prévisibles des processus. L'outil assure un contrôle efficace de l'uniformité des dépôts d'arc, du contrôle des courants et de la puissance, de l'outil de diagnostic des processus (PDT) et du contrôle statistique des processus (SPC) intégré, ainsi qu'une gestion avancée des sources de gaz pour la livraison de gaz multiples. LAM RESEARCH TCP 9600SE est livré avec un actif à vide multiple pour améliorer l'isolation des gaz de source et un collecteur de gaz de source plus grand pour améliorer le contrôle du débit de gaz. Une gamme d'options de débit indépendantes sont disponibles pour répondre à divers besoins de débit de processus dans l'environnement automatisé. Les pièces compatibles vont de 400mm substrats avec n'importe quelle forme, dépôts moléculaires bas et gravure de métaux avancés. TCP 9600 SE est compatible avec les formats WADD et SFT, les protocoles SECS/GEM, ProdLink et Software Remote Data Access. De plus, ce modèle est conforme aux derniers règlements de sécurité tels que la CEE, UL, IEC et CSA.
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