Occasion LAM RESEARCH TCP 9600 #9098467 à vendre en France

ID: 9098467
Taille de la plaquette: 6-8"
Style Vintage: 2010
Etcher, 6-8" Wafer type: flat (single type chamber) Loading capacity on 1 process run: (7) sheets X 2” wafer available (GaN process) Creates plasma on the order of 10e11 - 10e12 ions/cm3 Operating in pressure regime of 1-20 mtorr Etch rates of 3,000 to 10,000 A/min 2010 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 est un équipement de haute technologie pour graveur/asher à sec conçu pour des applications de traitement de semi-conducteurs telles que la gravure, la pulvérisation et le dépôt de couches minces. Le système utilise deux sources d'ions pour la gravure et le dépôt de couches minces, une pour la pulvérisation et un mandrin chauffé pour la préparation d'échantillons. Le graveur/asher a une chambre à vide avec une pression de base de 5,0 x 10-7 torr, et fournit une basse pression uniforme dans tout l'appareil. C'est une grande machine, avec huit pieds de profondeur de chambre, qui peut accueillir plusieurs configurations de plaquettes jusqu'à six pouces de diamètre. L'outil est conçu avec un actif HPPC (High Performance Process Control) intégré. Ce modèle automatise la commande des composants de la chambre et la commande de plusieurs paramètres de processus supplémentaires. Il permet aux utilisateurs d'effectuer le développement de processus avancé, la programmation et le contrôle du processus de chambre et des conditions plasmatiques. LAM RESEARCH L'EPC (Advanced Energy Particle Control) de TCP9600 fournit un contrôle de puissance indépendant aux sources de gravure et de pulvérisation. Ceci permet d'optimiser chaque source de manière indépendante, tout en améliorant l'homogénéité des procédés et la densité du plasma. L'équipement est également conçu avec un système d'alignement de précision (PAS) pour les sources de gravure et de pulvérisation. Ceci permet un alignement précis des sources pour le débit le plus élevé possible. Avec le PAS, la chambre peut maintenir un débit maximum dans des applications de gravure constantes et peu profondes. En outre, TCP-9600 comprend une unité de suivi et de rapport en temps réel pour l'ensemble de la Chambre, qui fournit une rétroaction en temps réel et une analyse de l'utilisation pour permettre l'optimisation des processus. La machine dispose également d'un ensemble d'ingénieurs, qui comprend une gamme complète de recettes de processus, modèles et modèles. Le TCP 9600 a été conçu pour offrir une flexibilité et une uniformité de processus extrêmes. Ses systèmes avancés de contrôle des particules énergétiques et d'alignement de précision fournissent des processus de gravure et de pulvérisation de haute qualité, tandis que ses systèmes de surveillance et de notification en temps réel fournissent à l'utilisateur une rétroaction constante. L'outil fournit une solution fiable pour les applications de traitement des semi-conducteurs et est idéal pour les utilisateurs qui nécessitent une flexibilité et une uniformité de processus maximales.
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