Occasion LAM RESEARCH Torus 300K/RF #9395308 à vendre en France
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ID: 9395308
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Etcher, 12"
SMIF/FOUP
Load module:
TAZMO TRP2500 Load port
TAZMO SW024 Loader arm
PVSK ADS 1202H Dry pump
Transfer module:
LAM RESEARCH Torus 300K Transfer arm (Robot)
PVSK ADS 1202H Dry pump
Process module:
LAM RESEARCH Torus 300K Chamber
PVSK ADS 1202H Pump
AD-TEC AX-1000 III RF Generator
LAM RESEARCH Torus 300K Gas box
LAM RESEARCH Torus 300K PC
HDD has been removed
Operating system: Windows 2000
2007 vintage.
LAM RESEARCH Torus 300K/RF est un graveur/asher conçu pour les processus de production dans les nœuds de technologie avancée. Il s'agit d'un équipement hautement configurable qui peut être utilisé pour la fabrication de dispositifs avant et arrière. Le système dispose d'une capacité de plaquette de 300 mm, a une capacité de gaz de procédé jusqu'à 5 gaz simultanément et dispose de la technologie avancée de nettoyage et de gravure du plasma. L'unité est livrée avec une capacité MDC (Multiple-Drag-Chain) pour assurer un contrôle répétable du profil de gravure. L'etcher Torus 300K/RF a une architecture modulaire, permettant une reconfiguration facile pour répondre aux besoins futurs sans impact sur la configuration d'origine. L'etcher a une approche massivement parallèle pour optimiser les processus de gravure, en utilisant plusieurs étapes et paramètres afin de fournir la vitesse de gravure et l'uniformité souhaitées. Il dispose d'un mandrin, d'une source et d'une chambre à température contrôlée qui maintiennent le contrôle de précision du processus même pour les travaux de gravure les plus complexes. LAM RESEARCH Torus 300K/RF peut fonctionner avec un large éventail de gaz plasmatiques et de chimies, permettant un contrôle parfait des processus de gravure. En outre, il offre une automatisation complète avec un dock de charge compatible robot et un protocole cassette-à-cassette qui rend le processus de production facile et efficace. La technologie innovante de générateur de puissance double RF de LAM RESEARCH Torus 300K/RF permet de fonctionner à haute et à faible puissance sans compromettre les taux de gravure. De plus, la machine est équipée d'une détection in situ et en temps réel pour assurer une profondeur de gravure précise et une uniformité sur l'ensemble de la plaquette. Un générateur de plasma adaptatif ajuste automatiquement les paramètres du processus en temps réel pour maintenir des taux de gravure rapides et éliminer la contamination plasmatique. La répétabilité des processus de gravure avec l'outil est également remarquable, car la précision du taux de gravure peut être aussi serrée que 1 %. LAM RESEARCH Torus 300K/RF peut être installé avec plusieurs détecteurs d'extrémité, permettant de passer directement entre les stratégies d'extrémité ainsi qu'entre plusieurs processus. En outre, l'actif est conçu avec des caractéristiques de sécurité et de santé pour s'assurer que l'etcher est 100 % conforme aux dernières normes de sécurité de l'industrie. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH Torus 300K/RF est un graveur polyvalent et puissant avec un contrôle précis de la vitesse de gravure et des capacités d'uniformité pour les procédés avancés de fabrication d'appareils.
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