Occasion LAM RESEARCH Torus 300S/RF #9395313 à vendre en France
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ID: 9395313
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2010
Plasma etchers, 12"
SMIF/FOUP
Load module:
CYMECHS DURAPORT Load port
AITEC WV300 Loader arm
PVSK ADS 1202H Dry pump
Transfer module:
CYMECHS AI-2500 Transfer arm (Robot)
PVSK ADS 1202H Dry pump
Process module:
LAM RESEARCH Torus 300S Chamber
PVSK ADS 1202H Pump
ADVANCED ENERGY RFG 1251 RF Generator
LAM RESEARCH Torus 300S Gas box
LAM RESEARCH Torus 300S PC
HDD has been removed
Operating system: Windows 2000
2010 vintage.
LAM RESEARCH Torus 300S/RF est un appareil de graveur/asher conçu pour fournir des performances de haut débit et un contrôle précis des paramètres de processus. Il est doté d'une conception flexible et peu coûteuse qui permet à l'utilisateur d'ajuster facilement le débit du processus et le profil de couche pour atteindre la qualité de surface souhaitée. Le Torus 300S/ RF offre une grande uniformité de gravure plasma avec sa chambre de traitement de 365mm x 365mm x 25mm de largeur, permettant des rapports d'aspect plus élevés et des films gravés plus épais. Son système de refroidissement avancé permet un fonctionnement plus efficace, ce qui permet une meilleure profondeur de gravure et des surfaces exemptes de défauts. Le dispositif est alimenté par un générateur RF avancé qui fournit des ions indépendants et des radicaux qui peuvent optimiser chaque étape de gravure avec précision. Le dispositif supporte la gravure plasma de tous les matériaux diélectriques, organiques et métalliques avec la capacité supplémentaire de graver à travers plusieurs couches de matériaux. Le Torus 300S/RF est également équipé d'un système intégré, entièrement conforme à l'humidité des traces qui permet d'assurer une excellente répétabilité et des résultats fiables et reproductibles des gravures plasmatiques. Le Torus 300S/RF peut être utilisé pour produire une grande variété de formes de gravures, y compris des tranchées VPS, des anneaux encastrés, des vias plaqués, des cavités ou des découpes. Ce dispositif est équipé d'un système de chargement/déchargement automatisé et d'une interface tactile pour un réglage convivial des paramètres. Il est également capable de maintenir des températures élevées jusqu'à 585 ° C pour un traitement de wafer de qualité. De plus, l'appareil dispose d'un temps plus rapide, « power-up to ready-for-etch » de seulement 40 minutes. LAM RESEARCH Torus 300S/RF est la solution de gravure idéale pour les processus sensibles au temps. Sa conception modulaire et une gravure uniforme cohérente permettent des résultats de processus reproductibles et fiables, et fournit aux utilisateurs une solution de gravure haut de gamme à faible coût. Malgré sa petite taille, il permet le traitement à travers les films les plus épais dans le plus court laps de temps.
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