Occasion LAM RESEARCH V2 TM #9397706 à vendre en France

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Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
V2 TM
ID: 9397706
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2013
Etcher, 12" Power rack BROOKS MagnaTran7 Robot (2) Flex F Process chambers Flex G Process chamber LAM Rocker valve GIB Gas box RPDB Process chamber: (2) Flex F Series Flex G Series EFEM: BROOKS MN-002-7200 LPM BROOKS 978-262-2 EEFM Robot BROOKS 978-262-2900 EEFM Robot controller EDWARDS EPX180NE Pump 2013 vintage.
LAM RESEARCH V2 TM est un équipement avancé de gravure/cendres conçu pour effectuer un traitement à sec avec une faible influence thermique sur un substrat. C'est un système double magnétron, double source de processus avec une plate-forme de contrôle avancée pour prendre en charge diverses exigences de processus. V2 TM offre une excellente protection des pièces et composants critiques tout en offrant une homogénéité et une répétabilité supérieures. LAM RESEARCH V2 TM utilise à la fois des ions et des radicaux pour faciliter la gravure ou la cueillette du substrat. Il contient deux magnétrons haute performance avec des sources d'énergie doubles qui sont réglés pour fournir le profil de processus désiré. Les magnétrons doubles sont logés dans une chambre en acier inoxydable de classe 1/Semiconductor (SCG), permettant une dissipation de chaleur efficace, assurant que la température est bien dans les limites du processus. L'unité dispose également d'une unité automatisée de contrôle des processus (PCU) pour faciliter la surveillance et le contrôle de l'etcher/asher. De plus, une machine sophistiquée de manutention des plaquettes est intégrée à l'outil pour optimiser la productivité et l'uniformité. L'actif sous vide configurable assure la cohérence du processus et du vide pour les pièces en cours de traitement. Le processus de gravure/cendres V2 TM est entièrement contrôlé et surveillé par ordinateur, depuis la configuration des conditions du processus jusqu'à la collecte des données du processus et l'optimisation des performances du processus. Un logiciel d'interfaçage puissant et avancé lui permet d'être facilement intégré aux systèmes d'automatisation existants ou futurs, assurant ainsi des opérations transparentes et productives. LAM RESEARCH V2 TM offre également une répétabilité et une uniformité de processus supérieures, avec un modèle CAE supérieur de qualité de production qui minimise le chauffage des substrats. Le CAE aérien permet également un transport facile des substrats et des éléments de verrouillage de charge, assurant des transferts de plaquettes lisses et cohérents. V2 TM etcher/asher est le choix idéal pour un traitement à sec à haut volume économique et fiable. Avec ses composants de contrôle avancés et son équipement robuste, LAM RESEARCH V2 TM garantit une fiabilité améliorée et des capacités de débit élevées.
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