Occasion LFE 104 #9008475 à vendre en France
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ID: 9008475
Barrel etcher/asher
4" diameter quartz chamber
300 watt power supply
Fomblin prepped direct drive pump available
Does not include fomblin oil.
LFE 104 est un graveur/asher conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Cette machine est capable de graver des couches minces et conformes de matériau à partir de divers substrats, y compris des plaquettes de silicium. 104 utilise un générateur hyperfréquence de grande puissance pour un contrôle précis de la profondeur ainsi qu'une variété de gaz de procédé pour aider à créer la finition de surface désirée. L'équipement comprend également une source de plasma pulsé (PPS) pour la gravure et d'autres processus de traitement de surface comme la passivation et le refoulement. La LFE 104 est équipée d'une grande chambre, permettant la gravure de plaquettes de grand diamètre jusqu'à 8 '. La chambre est placée entre quatre parois en carreaux de céramique CE surélevés pour aider à augmenter la durée de vie des chambres de gravure, tout en diminuant la contamination croisée. De plus, la machine est conçue avec de nombreuses caractéristiques de sécurité, telles que le confinement de matières chimiques et dangereuses, la surveillance de la température et les dispositifs de verrouillage de sécurité. 104 dispose d'une chambre de traitement multi-zones et d'un système de distribution thermique adaptatif pour améliorer la stabilité du procédé, ainsi que d'une unité d'alimentation en gaz et en produits chimiques à grande vitesse pour améliorer les temps de réponse. La machine offre également un balayage Z de précision avec mouvement XY et une imagerie haute résolution pour les processus manuels et automatisés. Une interface opérateur écran tactile est incluse pour un fonctionnement facile. LFE 104 est capable de graver ou de soutirer des couches marqueurs, comme le métal et le silicium polycristallin, et d'obtenir des finitions de surface précises et des densités de caractéristiques. Les configurations de traitement de gravure peuvent être optimisées pour une variété de paramètres, tels que la vitesse de gravure, la sélectivité de gravure, l'uniformité, et plus, tout en fournissant des profils de gravure de substrat fiables. Cet outil est idéal pour le traitement avancé, car il peut atteindre des niveaux élevés de précision et de répétabilité.
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