Occasion MARCH CS 1701 #9124399 à vendre en France

Fabricant
MARCH
Modèle
CS 1701
ID: 9124399
Taille de la plaquette: 8"
RIE system, 8" Clam shell Manual load MFCs currently set up for CF4, Ar, CHF3, O3 with N2 purge Advanced energy RFX-600 600 w Rf 13.56 Mhz power with auto-tuning Power supply: 110 V, 50/60 Hz.
MARS CS 1701 est un graveur/asher avancé conçu pour les fabrications standard de semi-conducteurs. Cet équipement utilise un laser CO2 puissant fournissant une largeur de faisceau focalisé de 8-35 μ m avec la possibilité de graver dans des substrats aussi minces que 20 μ m. Ce laser est couplé à un système de balayage galvo à deux axes capable de parcourir une zone de 300 mm x 300 mm avec une résolution minimale de 0,1 µm pour graver avec précision le motif désiré sur n'importe quel substrat. MARCH CS-1701 etcher/asher est également livré avec un étage X-Y-Z de 12 "conçu pour positionner le substrat en douceur. Une vitesse maximale d'adaptation de l'étage pendant la gravure est de 120 mm/s. L'étage est également équipé d'un obturateur mécanique situé au-dessus de la zone de gravure pour aider à protéger les particules pendant le processus de gravure. CS 1701 est extrêmement efficace. Cette unité est capable d'atteindre des profondeurs de gravure jusqu'à 100 µm aux tailles souhaitables de taches laser lumineuses et dispose d'un contrôle de puissance DRG qui se traduit par une productivité constante et une gravure de qualité supérieure. Grâce au contrôleur très fiable et facile à utiliser, cette machine peut rapidement s'ajuster aux réglages selon les instructions du client, quel que soit le matériau du substrat ou la puissance du faisceau laser. Cet etcher/asher peut également fournir une excellente reconnaissance de motif avec une précision supérieure. CS-1701 est un choix rentable pour graver et aspirer des motifs simples et complexes en substrats à raison de 40 W par seconde. Il est également capable de travailler avec divers matériaux tels que le silicium, le verre et les métaux, ce qui en fait une option idéale pour des applications dans l'industrie des semi-conducteurs, comme la production lithographique, les MEMS et les dispositifs microfluidiques.
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