Occasion MARCH Plasmod #9058869 à vendre en France

Fabricant
MARCH
Modèle
Plasmod
ID: 9058869
Etcher 100 W Generator Vacuum Tube RF source Manual tune Quartz outer chamber Pyrex inner chamber Option available: GCM 200 with (2) gas control.
MARS Plasmod est une technologie de gravure de pointe utilisée pour fabriquer des motifs nanométriques à la surface de divers matériaux. Il utilise une combinaison de processus physico-chimiques tels que la gravure par ions réactifs profonds (DRIE) et le dépôt par couche atomique (ALD) pour créer un motif chimiquement distinct à la surface. L'équipement Plasmod est un outil de cluster qui se compose de plusieurs modules pour permettre une approche modulaire des caractéristiques d'échelle nanométrique. Le module de coeur, par exemple, contient la source de plasma et les chambres de gravure/nettoyage, ainsi qu'un ensemble d'électrodes. En outre, chaque module peut contenir un ensemble différent de gaz, des systèmes de raccordement de flux et de rinçage, un régulateur de pression, des alimentations et un verrouillage. La première étape de l'utilisation du système MARCH Plasmod consiste à préparer un substrat approprié pour le processus de gravure. Pour ce faire, on crée dans le substrat un motif de surface élevée. Pour ce faire, on utilise une combinaison de techniques de lithographie, de pulvérisation RF et de gravure chimique. Une fois cela réalisé, le substrat est alors placé dans le module de coeur de l'unité Plasmod. Une fois dans le module de coeur, le substrat est exposé à un plasma RF haute puissance et basse fréquence. Ceci génère une forte chimie de gravure qui réagit avec le matériau en cours de gravure, conduisant au motif désiré en surface. Au cours de ce processus, le substrat doit être surveillé pour sa propreté, sa vitesse de gravure et sa température, et il peut être ajusté au besoin en ajustant le niveau de puissance et les débits de gaz. Une fois la gravure terminée, la machine MARCH Plasmod peut être utilisée pour un procédé de dépôt de couche atomique (ALD). L'ALD est une technique de dépôt utilisée pour créer des couches minces uniformes à la surface du substrat. Ceci est réalisé en exposant alternativement le substrat à deux précurseurs différents puis en les polymérisant pour former une couche monoatomique de matériau. Une fois le processus de dépôt terminé, le substrat est ensuite nettoyé et prêt à être retiré de l'outil Plasmod. Selon le type d'application, la taille de la caractéristique peut aller de quelques nanomètres à plusieurs micromètres. MARS actif peut également être utilisé pour des matériaux tels que les métaux, la céramique et les polymères. En résumé, MARCH Plasmod est un modèle de gravure avancé capable de créer des caractéristiques d'échelle nanométrique sur un large éventail de substrats.
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