Occasion MARCH Plasmod #9225186 à vendre en France
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ID: 9225186
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With manual gas control module GCM-100
(3) Gas controls
Gas control monitor
Includes teflon gas lines
Quartz chambers
Generator: 125 W
Solid state RF source (Internal)
Manual tuning
Inner / Outer chamber have been replaced
Gas distribution tube not included
Chamber pressure sensor & pressure readout
Manual interface with (3) Flow meters for flow control & (3) gases
Pressure gauge.
MARS Plasmod est un équipement de gravure ionique réactive (RIE) conçu pour effectuer des processus de gravure et de cueillette générale. Il est adapté pour la gravure à haut débit car il est capable de traiter plusieurs échantillons simultanément. Le système est contrôlable via son interface utilisateur à écran tactile qui permet des capacités de gravure et de traitement précises. L'unité utilise une alimentation haute fréquence de 13,56 MHz pour produire de l'énergie plasma, fournissant des capacités de traitement RIE de grande puissance. Cette énergie est également utilisée pour cibler et graver la surface des échantillons, fournissant des résultats propres et à haute résolution. La machine utilise en outre un outil de distribution de gaz pour un traitement précis. Chaque processus peut être affiné à l'aide d'un contrôleur intégré, ce qui permet de développer diverses recettes de gravure et de les stocker dans le contrôleur pour une utilisation future. L'actif dispose également d'un modèle de pompe à vide interne, permettant un changement rapide et efficace des gaz lors de la gravure. L'équipement fonctionne à l'intérieur d'une chambre à vide à température contrôlée multiple, ce qui permet une meilleure protection contre les dommages plasmatiques par rapport aux systèmes à chambre à vide unique. Cela garantit en outre que les résultats de la gravure sont d'une grande cohérence et qualité. La réduction de la complexité des protocoles est une caractéristique clé du système, permettant aux utilisateurs expérimentés d'établir des protocoles en quelques minutes. De plus, l'interface utilisateur est adaptée pour réduire la quantité d'emboîtement et de réglage de chaque paramètre lors de la création d'un protocole. L'unité est compatible avec une gamme de matériaux échantillons, y compris le silicium, les matières organiques, les matières inorganiques, et plus encore. Il est capable de graver plusieurs types de matériaux en une seule fois, permettant une plus grande flexibilité pour le prototypage ou le test de variation d'échantillons. La machine intègre des caractéristiques de conception pour assurer un paradigme de gravure optimal. Il s'agit notamment de la réduction de la contamination par les ions réactifs et le plasma, du contrôle automatique de la pression et des résultats de processus répétables. L'outil a été conçu avec la sécurité, la performance et la flexibilité en tête, ce qui en fait le partenaire idéal pour tout processus de gravure.
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