Occasion MARCH PX-1000 #293775356 à vendre en France

MARCH PX-1000 est un équipement de pointe de graveur/asher de plasma conçu pour le traitement précis et uniforme des plaquettes semi-conductrices et d'autres substrats dans la recherche et le développement de pointe, ainsi que des environnements de fabrication à haut volume. Cet outil polyvalent offre un large éventail de capacités de processus, y compris la gravure, l'ashing et le traitement de surface, ce qui en fait un atout essentiel pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et la fabrication de MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems). Le MARCH PX 1000 dispose d'une chambre à vide robuste et fiable en acier inoxydable de haute qualité, assurant un excellent contrôle du processus et la stabilité lors des opérations de gravure et de cendrage. Le système est équipé de systèmes avancés de distribution et de contrôle des gaz, permettant une manipulation précise des gaz de procédé tels que l'oxygène, l'argon, le fluor et d'autres espèces réactives pour atteindre les taux de gravure et la sélectivité souhaitées. Le débit de gaz peut être réglé avec précision pour créer une densité et une répartition du plasma uniformes sur la surface du substrat, ce qui donne des résultats de traitement cohérents et reproductibles. L'un des points forts de PX-1000 est sa technologie avancée de production de plasma RF (radiofréquence), qui améliore l'efficacité et la flexibilité des processus. L'unité utilise un générateur RF de forte puissance pour créer un plasma hautement ionisé dans la chambre de procédé, permettant une gravure rapide et efficace de divers matériaux, y compris le silicium, le dioxyde de silicium, les nitrures et d'autres couches diélectriques. La source de plasma RF permet également un contrôle précis de l'énergie et du flux ioniques, conduisant à un contrôle supérieur du profil de gravure et à une lisse latérale, ce qui est essentiel pour la fabrication avancée des dispositifs et des caractéristiques nanométriques. Le PX 1000 offre une gamme de modes de gravure et d'ashing, y compris la gravure isotrope et anisotrope, le descum/ashing et la modification de surface, permettant aux utilisateurs d'adapter les recettes de traitement pour répondre aux exigences spécifiques des applications. La machine supporte à la fois les modes de gravure RIE (Reactive Ion Etching) et ICP (Inductively Coupled Plasma), offrant une flexibilité dans le développement de recettes et l'optimisation pour les différentes piles de matériaux et les structures des appareils. En outre, l'outil dispose d'une interface conviviale et d'un contrôle logiciel intuitif, permettant une configuration facile de la recette, la surveillance et l'enregistrement des données pour l'optimisation du processus et la traçabilité. En ce qui concerne la manutention des substrats, MARCH PX-1000 est conçu pour accueillir une variété de tailles de plaquettes, allant de petites pièces jusqu'à 300mm de plaquettes, ce qui le rend adapté à la R-D et aux environnements de production à haut volume. L'actif est équipé d'un mandrin et d'un mécanisme de manutention fiables pour assurer un positionnement et un alignement précis du substrat pendant le traitement. De plus, la conception de la chambre intègre des systèmes avancés de distribution des gaz et d'échappement afin de minimiser la production de particules et la contamination croisée, tout en maintenant une propreté et un rendement élevés. Dans l'ensemble, le modèle MARCH PX 1000 plasma etcher/asher combine une technologie de procédé avancée, une conception matérielle fiable et un fonctionnement convivial pour offrir des performances supérieures dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et les applications de traitement des matériaux. Avec ses capacités de processus polyvalentes, sa répétabilité élevée et son excellent contrôle des processus, PX-1000 est une solution idéale pour des applications exigeantes dans l'industrie des semi-conducteurs, la fabrication de MEMS et les établissements de recherche nécessitant un traitement plasma de précision pour le développement de dispositifs de nouvelle génération.