Occasion MATRIX 105 #9032613 à vendre en France

MATRIX 105
Fabricant
MATRIX
Modèle
105
ID: 9032613
Asher, 2" High temperature chuck (up to 300°C) Cooling station Horse-shoe: Pin lifter 2-piece quartz chamber.
MATRIX 105 est un Etcher/Asher de haute précision, entièrement automatisé et de taille moyenne conçu pour augmenter le temps d'utilisation des processus et l'utilisation efficace des ressources. Sa taille compacte et sa conception autonome permettent une intégration dans une variété d'environnements de laboratoire et industriels, tandis que sa construction robuste et ses caractéristiques avancées le rendent très fiable. Grâce à son système de contrôle avancé et à une gamme d'accessoires de contrôle de processus standard, ce dispositif réalise des tâches de gravure et de cueillette chimiques précises avec des résultats cohérents, reproductibles et reproductibles. La machine est construite en acier inoxydable résistant à la corrosion, avec un cadre en aluminium robuste et des caractéristiques de sécurité intégrées. 105 est équipé d'un système avancé de contrôle des processus qui offre un contrôle précis sur tous les processus de gravure et de cueillette. Il comprend une interface utilisateur graphique, des outils intuitifs pour définir les paramètres du processus, des ports d'entrée/sortie programmables, une interface RS232, un convertisseur analogique-numérique 16 bits et d'autres fonctionnalités utiles pour simplifier la programmation de toute recette de processus. MATRIX 105 est également livré avec de puissantes capacités de gravure et de cendrage. Il offre une large gamme de réglages de température jusqu'à 800 ° C, un type d'atmosphère réglable (air, inerte ou réducteur), et des taux de rampe rapides allant jusqu'à 50 ° C/min. Le dispositif est également capable de fonctionner dans des conditions extrêmes, telles que jusqu'à -120 ° C et jusqu'à 2800mbar. 105 est bien adapté à diverses applications, y compris la gravure et le cendrage des photomasques, la gravure et le cendrage des transistors à effet de champ et la préparation des échantillons pour l'analyse de diffraction des rayons X. Sa construction robuste et ses caractéristiques avancées garantissent des résultats cohérents et fiables, même pour les processus les plus exigeants.
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