Occasion MATRIX 105 #9032614 à vendre en France

MATRIX 105
Fabricant
MATRIX
Modèle
105
ID: 9032614
Asher, 2" Type: Stand alone Standard chuck: 200°C Horse-shoe: Pin lifter Standard chamber.
MATRIX 105 etcher/asher est un équipement de gravure et de cendrage chimique très avancé, utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et d'autres applications microélectroniques. Il prend la précision de la gravure chimique humide et la combine avec la vitesse de traitement des techniques de gravure sèche. Le système utilise une chambre de procédé à vide ultra-haute, avec jusqu'à six ports de vide et une serrure de chargement. Cela permet d'effectuer des processus inertes, réactifs, secs et humides de manière efficace et propre. A l'intérieur de la chambre de gravure, une machine robotique sophistiquée est utilisée pour gérer le processus de gravure. Le robot est programmé pour déplacer les plaquettes, substrats et autres composants de gravure avec précision et précision à des débits variables pour une qualité de gravure optimale. Ceci fournit des taux de gravure élevés à profondeur uniforme et propre le long du profil de gravure. 105 est conçu pour exécuter à la fois les processus de cendres et de gravure lourde. L'ashing est un procédé dans lequel une couche non conductrice de silicium polycristallin, tel qu'un oxyde, est éliminée d'une surface. La cendre est nécessaire pour préparer la surface en vue d'un traitement ultérieur. La gravure lourde est utilisée pour créer des motifs et des formes dans des plaquettes, des substrats et d'autres matériaux. Grâce à la gravure en mode impulsionnel, l'outil peut contrôler précisément la profondeur de gravure et l'exhaustivité pour les processus de gravure les plus efficaces et précis. MATRIX 105 possède également une paroi froide qui permet de réduire la contamination des particules et d'améliorer l'uniformité de gravure. Les parois froides réduisent le niveau de chaleur à l'intérieur de la chambre, ce qui réduit les effets thermiques et améliore l'uniformité du profil. De plus, pour les processus de gravure critiques, la détection du débit de gaz (GFED) peut être activée et surveillée pour s'assurer du point de fin de gravure exact. Enfin, la gamme complète des capacités de contrôle et de mesure fait de 105 l'un des systèmes les plus avancés du genre. Il dispose de moniteurs de processus faciles à utiliser qui peuvent détecter et enregistrer des paramètres de processus tels que la pression, la température, la tension et le courant. Ces données peuvent ensuite être stockées et analysées pour assurer les meilleurs résultats possibles à chaque application de gravure et de cueillette.
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