Occasion MATRIX 106E #293747965 à vendre en France

MATRIX 106E est un équipement de pointe de graveur et asher conçu pour les applications de semi-conducteur et de recherche. Cet outil de pointe offre une technologie de pointe et des fonctionnalités qui en font une solution polyvalente et très efficace pour divers processus de gravure et d'ashing. Une des caractéristiques clés de 106E est son contrôle précis et l'uniformité dans le traitement, obtenu grâce à une combinaison de technologie de plasma de pointe et une chambre de processus hautement configurable. Ce système utilise une source de plasma haute densité pour générer un environnement réactif pour les processus de gravure et de cueillette. La source de plasma est capable de fournir une densité d'ions et une énergie élevées, permettant une élimination efficace des matériaux et une modification de surface. Les capacités de gravure de MATRIX 106E permettent d'éliminer avec précision le matériau des substrats avec une haute sélectivité et un contrôle des processus. Cette unité est équipée d'une gamme de systèmes d'injection de gaz qui peuvent être utilisés pour introduire divers gaz de procédé dans la chambre pour réaliser des chimiographies de gravure spécifiques. En outre, 106E dispose d'une machine de distribution de puissance RF sophistiquée qui permet d'ajuster avec précision les paramètres de processus tels que la puissance, la pression et les débits de gaz pour optimiser les performances de gravure. En plus de ses capacités de gravure, MATRIX 106E est également équipé d'une fonctionnalité asher avancée pour décaper les contaminants organiques et les photorésistants des substrats. L'outil utilise une combinaison de la chimie du plasma et du gaz pour éliminer efficacement les films organiques tout en minimisant les dommages au matériau sous-jacent. Le procédé asher est très contrôlable, permettant un réglage précis des paramètres pour obtenir les résultats de nettoyage souhaités sans compromettre l'intégrité du substrat. 106E est conçu avec la commodité et la sécurité de l'utilisateur à l'esprit, avec une interface conviviale et des contacts de sécurité complets pour assurer un fonctionnement fiable. L'actif est équipé de fonctions avancées de surveillance et de contrôle des processus qui permettent aux opérateurs de suivre les paramètres des processus en temps réel et d'effectuer les ajustements nécessaires pour maintenir des conditions de traitement optimales. En outre, MATRIX 106E offre un haut degré de flexibilité de processus, avec la capacité de s'adapter à une large gamme de tailles de substrat et de matériaux. Le modèle peut être facilement configuré pour supporter différentes chimies de processus, ce qui le rend adapté à une variété d'applications dans la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication de MEMS, et les laboratoires de recherche. Globalement, 106E est un équipement de pointe de graveur et asher qui offre des performances, une précision et une fiabilité supérieures pour un large éventail d'applications de gravure et de nettoyage. Sa technologie de pointe, sa conception conviviale et sa flexibilité de processus en font une solution idéale pour les fabricants de semi-conducteurs et les chercheurs qui cherchent à obtenir des résultats exceptionnels dans le traitement des matériaux et la modification de surface.