Occasion MATRIX System One 105 #9098100 à vendre en France

MATRIX System One 105
ID: 9098100
Taille de la plaquette: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6" Microprocessor controlled Single wafer Single cassette Independent control of pressure RF Power Temperature Gas flow Substrate position Includes: ENI OEM-6 RF water cooled generator: 600 W Wafer processing environment Electrode assembly Multi-step (3 Steps and over etch) process program Butterfly valve Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control (2) Mass Flow Controllers (MFCs): TG 5 SLPM, 300 SCCM Closed-loop control of substrate temperature (Temperature range: 80°C to 250°C) Pin movement: Up and down.
MATRIX Equipment One 105 est un graveur/asher de haute qualité offrant des capacités avancées de traitement des matériaux. Ce graveur avancé est capable de traiter un large éventail de matériaux tels que le silicium, le verre, les métaux et les alliages. Le système One 105 comprend une station d'électro-gravure de précision, une station rotative pour la gravure par plasma et une station de pulvérisation pour le fraisage ionique. Il fonctionne avec une unité de chargement et de déchargement automatique qui permet des réglages en ligne pré-programmés et des résultats très précis. Cette machine dispose d'une flexibilité avancée, lui permettant de manipuler différents types de matériaux dans le même cycle. Il dispose également d'un outil intégré de protection contre les défauts qui évite les dommages aux pièces et matériaux sensibles. L'etcher dispose d'un actif de chauffage innovant qui assure un chauffage uniforme des matériaux à la température désirée. Ceci garantit un résultat de gravure optimal, indépendamment du matériau ou de la plage de température. De plus, l'etcher comprend un modèle de contrôle qui surveille et maintient un processus de gravure uniforme pour obtenir des résultats optimaux. Il permet également de multiples cycles de gravure et dispose de fonctions de contrôle automatique pour plus de précision et de précision. En termes de précision et de durabilité, MATRIX Equipment One 105 etcher offre le plus haut niveau de précision et de durabilité à un prix abordable. Le broyage ionique fournit des résultats très précis et précis, et la gravure plasma offre une meilleure définition des fonctionnalités. Cela rend l'etcher idéal pour les tâches critiques de fabrication d'appareils qui nécessitent précision et précision. L'etcher comprend également une puissante unité de contrôle programmable, permettant aux utilisateurs d'accéder à des niveaux détaillés de programmation et de contrôle. Cela permet une gravure précise et cohérente, quel que soit le matériau et le type de gravure. Ayant été conçu pour des tâches de traitement hautement spécialisées, le graveur est bien adapté pour la manipulation de composants microfabriqués. L'unité est à la fois compacte et robuste, ce qui la rend parfaite pour une utilisation en laboratoire ou dans un autre environnement de production. Cela fait du System One 105 un choix idéal pour les utilisateurs à la recherche d'un graveur facile à utiliser, fiable, précis et économique.
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