Occasion MATRIX System One 106 #9098085 à vendre en France
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ID: 9098085
Taille de la plaquette: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor-controlled
Single wafer, single cassette
Independent control of:
Pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
600W RF water cooled generator (ENI OEM-6)
Optically isolated wafer processing environment
Patented interleaved electrode assembly
Multi-step (3 Steps + over etch) process program
Butterfly valve for more precise pressure control
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM)
Closed-loop control of substrate temperature
Temperature range: 80°C to 300°C
Pin movement (Up and down)
Center drawer chuck
Cooling station.
MATRIX Equipment One 106 est un graveur haute performance entièrement automatisé développé par Lockheed Martin Advanced Energy Technologies. Il est basé sur le mécanisme moteur linéaire MATRIX X-Y couramment utilisé dans les systèmes de revêtement à couches minces. Avec sa grande précision et sa vitesse, ce système est adapté à l'application d'une grande variété de matériaux allant de la diélectrique aux métaux et autres matériaux. L'unité est conçue pour assurer une grande uniformité moléculaire de l'épaisseur du revêtement à travers le substrat et assurer une vitesse de gravure/croissance uniforme dans toutes les directions. Au cœur de l'unité se trouve une unité multi-axes de moteurs linéaires X-Y de précision. Ces moteurs déplacent la tête de gravure avec une résolution de 1 microseconde dans le plan X-Y. La tête de gravure est placée dans une chambre à vide où les traitements de gravure et de cendres ont lieu. Lors de la gravure, la chambre à vide peut être ajustée pour une vitesse de gravure optimale pour différents substrats. La pression, la température et la composition du gaz sont également réglables. La température peut atteindre 1000 ° C et la pression est réglable jusqu'à un maximum de 200Pa. De plus, la machine One 106 dispose d'un outil de test automatisé intégré, piloté par le diagnostic, utilisé pour assurer le traitement optimal des substrats. Cet atout garantit que le processus de gravure et de cueillette se déroule avec une précision maximale. Le substrat peut être du chalcogénure, du quartz, du sublimate de titane, du dioxyde de silicium, du nitrure de silicium, de l'aluminium et d'autres matériaux. MATRIX Model One 106 est un équipement robuste qui peut être utilisé pour répondre aux besoins des projets industriels les plus exigeants. Il est très précis, a une grande répétabilité et une grande précision. Les tolérances élevées de processus que le système offre le rendent adapté au prototypage, aux tests fonctionnels et à la fabrication de produits. Il utilise également une technologie de commande avancée pour garantir un haut niveau d'uniformité dans chaque couche de gravure. Le graveur/asher est très fiable et facile à entretenir. Sa sauvegarde de machine permet également de s'assurer que l'unité reste opérationnelle dans n'importe quel environnement.
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