Occasion MATRIX System One 106 #9098102 à vendre en France

MATRIX System One 106
ID: 9098102
Taille de la plaquette: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6" Microprocessor-controlled Single wafer, single cassette Independent controller: Pressure RF Power Temperature Gas flow Substrate position Includes: 600W RF Water cooled generator (ENI OEM-6) Optically isolated wafer processing environment Patented interleaved electrode assembly Multi-step (3 Steps + over etch) process program Butterfly valve for more precise pressure control Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control (2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM) Closed-loop control of substrate temperature Temperature range: 80° to 300°C Pin movement (Up and down) Center drawer chuck Cooling station Controller: Gas flows: Up to 3 RF Power: 100 to 500 W Process pressure Absolute endpoint time Optical endpoint parameters Gas controller: Substrate positioning Pressure controller.
MATRIX Equipment One 106 est un système de gravure et d'ashing complet destiné aux environnements de laboratoire à semi-conducteurs. C'est la solution idéale pour ceux qui recherchent un moyen fiable de fabriquer des galettes métalliques avec des temps de cycle rapides, une grande précision et un faible coût. Cette unité est capable de graver et de soutirer des plaquettes jusqu'à 8 "à des épaisseurs variables et des couches de masque. La machine One 106 utilise des fonctionnalités technologiques avancées pour garantir les meilleurs résultats de cueillette et de gravure possibles. Sa grande précision, son contrôle répétable des processus et son temps de cycle rapide en font un excellent choix pour les activités de production et de R&D. Il utilise une plate-forme de gravure et de cendrage en rotation horizontale pour une précision améliorée. L'outil est également intégré à un actif d'inversion automatique pour assurer une gravure, un nettoyage et un conditionnement appropriés des plaquettes. MATRIX Model One 106 comprend une alimentation RF réglable, un verrouillage de charge réglable, un équipement de distribution de gaz réglable et un générateur de fréquence réglable. Il dispose d'un mode de gravure et de cendrage réglable en simple ou en double cycle, de sorte que vous pouvez adapter le processus à vos besoins spécifiques. Le pilote RF réglable permet également d'utiliser le système One 106 avec différents gaz et mélanges liquides, de sorte que vous pouvez utiliser l'unité avec une variété de matériaux. MATRIX Machine One 106 dispose d'un design peu entretenu et convivial. Il dispose d'une interface utilisateur intuitive et facile à lire pour un fonctionnement rapide et précis. L'outil est capable de fonctionner dans un large éventail d'environnements de température et de pression. Il est équipé de plusieurs dispositifs de sécurité et de plusieurs dispositifs de surveillance pour s'assurer que les plaquettes sont traitées en toute sécurité et avec précision. Asset One 106 est équipé d'une variété de composants pour une gravure et un cendrage efficaces et fiables. Il dispose d'une enceinte conçue pour assurer la propreté de l'environnement RF et son ajustabilité permet de modifier le processus de gravure. La grande précision du modèle garantit que le processus de gravure et d'ashing dirige les matériaux vers les zones souhaitées, avec un gaspillage minimal. MATRIX Equipment One 106 offre une solution de gravure et de cendrage abordable et fiable pour les usages de R&D et de production. C'est un excellent choix pour ceux qui veulent obtenir des temps de cycles rapides et des métaux fiables sur les plaquettes.
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