Occasion MATTSON Aspen II #293633237 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293633237
Taille de la plaquette: 8"
Dual ICP systems, 8"
Cassette door cylinder, 18"
ICP Dual chamber with cooling chamber
(4) Quartz tubes
(4) RF Coils
(4) Channels gas lines per chamber with MFC
(4) AO Boards
(4) Matching boxes
(2) Heater blocks
(2) Slit doors
(2) Gas boxes
(2) DI/O Boards
(2) Process chambers
(2) RF Generators (Comet cito plus)
2-Lift pins
Pressure controller: (2) ACX, (2) Throttle valves
Robot
Shuttle
Arm
Platform
Cassette door
O-Ring and ISO valve
CPU Board
AI Board
Indexer boar
SECS II Board
PIB
Motor control board
Analog filter board
Terminal panel
Operator interface: Y (SMIF Type).
MATTSON Aspen II est une machine de gravure de précision haute performance conçue pour un fonctionnement fiable dans les environnements de production et de recherche. Sa technologie de pointe en fait un choix idéal pour le contrôle de la vitesse de gravure, l'uniformité du substrat et les applications de gravure de fine ligne. Doté d'une alimentation RF rapide et puissante de 10 kW et d'un transducteur PZT, Aspen II offre une excellente répétabilité, des caractéristiques de haute résolution et une excellente sélectivité. Il est capable de graver une variété de matériaux tels que le silicium, le saphir, le quartz et le verre. MATTSON Aspen II est équipé d'un contrôleur numérique 4 axes CNC pour assurer un traitement précis et reproductible avec facilité. La machine est équipée d'une large gamme d'équipements de contrôle de processus in-situ et ex-situ. Cela comprend le contrôle numérique de la pression, la détection in situ des gaz de chlore et les programmes de pré-nettoyage et de post-nettoyage en immersion automatique complète. Ceci fournit un niveau exceptionnel de précision de gravure et de débit, ce qui donne des rendements plus élevés et des temps de cycle plus courts. Aspen II dispose également d'une source de plasma avancée et d'un système d'appariement RF avancé. Cette combinaison est conçue pour fournir d'excellents plasmas reproductibles avec une perte inverse minimale et maintenir les meilleures conditions de processus. La source de plasma utilise le système multi-doses (MDS) breveté. Il est capable de fournir une décharge lueur homogène, accordable pour fournir des taux de dépôt plus élevés et une meilleure sélectivité de gravure. MATTSON Aspen II prend également en charge une large gamme de produits chimiques de gravure, y compris la gravure à base de fluor, la gravure humide indirecte et le broyage ionique. Pour améliorer les résultats de gravure, son équipement de contrôle de processus permet de définir des paramètres optimisés de recette et de gravure pour chaque plaquette traitée. Il est également capable de nettoyer et de décaper avec des méthodes chimiques et physiques, telles que l'agitation ultra-sonique. Aspen II fournit une solution complète pour les applications de gravure et de cendrage. Il offre une excellente répétabilité, une gravure haute résolution et un débit optimisé. Son contrôle avancé des processus et sa conception des sources plasmatiques garantissent des résultats de qualité avec moins d'entretien et de temps d'arrêt.
Il n'y a pas encore de critiques