Occasion MATTSON Aspen II #293807044 à vendre en France

MATTSON Aspen II est un équipement Plasma Asher/Etcher à microcontrôleur de haute performance bien adapté à la R-D et au traitement de la production. Le système est capable de graver et de soutirer dans un large éventail de gaz et de procédés chimiques. Cette unité comprend à la fois une alimentation d'électrode et une chambre de procédé, permettant une large gamme de procédés de gravure et de dépôt de couches minces. La machine Aspen II a une plage de pression de fonctionnement de 1 à 100 millitorr et utilise une source de plasma à distance et l'alimentation RF RF/DC Pulsed pour générer un panache de plasma haute densité. Ce panache est résilient dans la gamme du méthane, de l'argon et de l'oxygène, et d'autres gaz et ions nobles peuvent être utilisés pour des applications spécialisées. Les détecteurs de masse d'ions secondaires intégrés (SIMS) pour l'analyse des caractéristiques des ions plasmatiques fournissent aux utilisateurs une courbe de processus précise et le résultat de la gravure du plasma. La construction de précision de MATTSON Aspen II et les matériaux avancés utilisés dans sa construction en font un outil robuste et fiable. L'actif dispose également de plusieurs mesures de protection intégrées dans sa conception, telles que la prévention du refoulement et les refroidisseurs à vide pour le chauffage du flux, ce qui le rend idéal pour graver les matériaux tenaces, comme le quartz, et une variété de matériaux semi-conducteurs. Le modèle dispose de plusieurs caractéristiques de sécurité qui le rendent adapté aux processus sensibles, y compris le filtrage ultraviolet profond, une fonction de dégazage lent, et des systèmes de suivi photorésist de plaquettes. L'Aspen II automatisé est facile à utiliser et peut être intégré dans n'importe quelle boîte à outils de processus existante avec un minimum d'effort. Enfin, l'équipement de haute performance assure une qualité de procédé cohérente, répétable et hautement contrôlable, typique de celle attendue d'un système de gravure/cueillette de qualité industrielle. Son interface graphique conviviale (interface graphique) offre une programmation facile, une configuration de prétraitement et un suivi complet du processus. MATTSON Aspen II possède une excellente homogénéité de pression moyenne et est capable de graver jusqu'à une précision de 9um. Overal, Aspen II est un excellent choix pour toutes les applications de gravure/ashing, permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats de processus supérieurs avec un haut degré de répétabilité, d'uniformité et de rentabilité.