Occasion MATTSON Aspen II #9185171 à vendre en France

MATTSON Aspen II est un équipement réactif de gravure d'ions et d'asher spécialement conçu pour les procédés de fabrication de plaquettes à semi-conducteurs. Ce système est capable de graver et d'aspirer des substrats avec une grande variété de procédés chimiques de gravure/cendres. Il dispose d'une grande vitesse, gravure à haut débit et cendrage, grâce à ses électrodes positionnées avec précision, sa répétabilité très élevée et ses faibles niveaux de contamination. Aspen II est conçu pour fonctionner avec les acides et les gaz, et peut traiter tous les types de chimiographies gravure/cendres sans modifications majeures. MATTSON Aspen II peut être utilisé pour la gravure plasma, le cendrage et la gravure cendrée des substrats entrants, ainsi que pour le dépôt de couches minces. Cette unité est autonome et fonctionne dans une chambre à vide à un étage, qui est étanche et maintenue à des pressions spécifiques. Il comprend une machine de distribution de gaz de gravure/cendres, une chambre pour la réaction, une alimentation radiante RF, et un contrôleur pour le fonctionnement et la surveillance du processus. La chambre est spécialement conçue pour assurer une gravure uniforme des substrats par l'intermédiaire d'un réseau élaboré d'électrodes, assurant un contrôle très précis de la chimie de surface du substrat. Les avantages de l'utilisation d'Aspen II sont ses temps de cycle rapides, son débit élevé, sa répétabilité très élevée et ses faibles niveaux de contamination. L'outil est conçu pour fonctionner dans un environnement à basse pression, où le processus de gravure est optimisé pour les meilleurs résultats. L'actif intégré de livraison de gaz est programmable pour offrir une flexibilité dans le travail avec différents procédés chimiques et substrats. L'alimentation radiante RF garantit en outre que le processus de gravure est précis et contrôlé. La maintenance du modèle est également facile et rentable. La chambre et l'équipement de distribution de gaz peuvent être démontés pour le nettoyage, et toutes les pièces sont facilement remplacées si nécessaire. Le système est également configuré pour le diagnostic automatisé et le dépannage, ce qui rend la maintenance très rapide et facile. En conclusion, MATTSON Aspen II est une unité de gravure et d'asher très performante, spécialement conçue pour les procédés de fabrication de plaquettes semi-conductrices. Il est très précis et efficace, et ses composants sont faciles à remplacer si nécessaire. Il est également très rentable, tant en termes d'investissement initial qu'en termes d'entretien et d'entretien. Aspen II est une excellente solution pour toute industrie nécessitant une gravure et une cueillette fiables, répétables et rapides des substrats.