Occasion MATTSON Aspen II #9398659 à vendre en France
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ID: 9398659
Taille de la plaquette: 8"
ICP System, 8"
MATTSON Endpoint detection system
With fixed filters: 430 and 520
Cable length: 19 ft
(3) RF Cables and signal cables
(2) Heaters
MFC
Chambers:
Back chamber:
366 MHz CPU: Analog in and PCB out
Floppy Disk Drive (FDD): DI/DO Cards
Chassis: Power supply
Gas channel: Bottom feed channel
Cool down station: No water cooling
Gas lines
Right chamber:
366 MHz CPU: SEC II Card
Floppy Disk Drive (FDD): Robot stepper (SMC-PC3)
Chassis: Backing plain
Gas channel: Junction box
Cool down station: Lexan plates
Gas lines with filters
Front end:
26" Opening with separate operator interface
4-Color light tower
Operator / Engineering monitor: TFT Design monitor
Gas box with sub frames
EMO Buttons
Interlock circuit: Push button switches
Hanging panels
Load lock:
Single load lock
(2) Cassette stations
Capability of queuing lots
Pin search assembly: Proximity sensors
Load lock seal: Lip seal
Platform and cassette:
(4) 25-Slot cassettes
Rotating cassette nests, 8"
Cool down station: Flat cool down station without water lines
Load lock fast exchange
Transfer robot:
Main robot: 3-Axis robot with flex cable
Robot arm: (4) Adjustable paddles with standard arm
Slit door
Wafer sensors: Paddles, front and rear cassettes
Shuttle: 26"
Process module:
Chamber right and back:
Tube type: Quartz tube
Standard process window
ICP Chamber O-ring type: Flurosilicon
Temperature controller: WATLOW 988 / EZ Zone
Thermal couples: Spring loaded TC
Lift pin assembly
Grids / Guide rings: Extended guide ring
Electrical feed through
Manifold and ceramic parts
Isolation valve
Top plate
Load lock
Chamber
Pressure controller:
VAT Valve pressure controller
Chamber manometer: 10 Torr
Load lock manometer: 100 Torr
Shuttle manometer: 1000 Torr
RF / MW System:
RF System: Top RF 13.56 MHz
(3) RFPP10 RF Generators: (2) Power cables missing
TRAZER AMU 10D-2 RF Top match, P/N: 914-92003-00: (2) Vacuum capacitors missing
Re-silvered RF coils
(125) RF Vacuum caps: 100PF
AC Box: 2-3 Phase generators with safety cover
DC Box
Gas system:
Gas VCR gasket: Stainless steel and Nickel
Gas line / Gas / Range
Gas 1 / O2 / 1000 SCCM
Gas 2 / N2 / 1000 SCCM
Gas 3 / N2/H2 (4%) / 2000 SCCM
Gas 4 / CF4 / 100 SCCM
Side:
Gas 1 / O2 / 5 SLM
Gas 2 / N2 / 1 SLM
Gas 3 / CF4 / 200 SCCM
Gas 4 / O2 / 1 SLM
Rear:
Gas 1 / O2 / 10 SLM
Gas 2 / N2 / 1 SLM
Gas 3 / CF4 / 200 SCCM
Gas 4 / O2 / 1 SLM.
MATTSON Aspen II est un équipement de gravure avancé qui fournit une gravure de précision avec un débit élevé et un faible coût de possession. Il est conçu pour augmenter la productivité tout en offrant un haut niveau de flexibilité et de contrôle sur les paramètres de gravure. Aspen II est utilisé dans de nombreux types d'applications et de projets de recherche nécessitant la gravure de divers matériaux. Il convient à la gravure de nombreux substrats dont le silicium, le quartz, le molybdène et l'acier inoxydable. Le système dispose d'un étage réglable pour graver facilement les grands ou petits substrats, y compris les coins, les bords et les marches. La grande chambre de gravure permet de graver plusieurs plaquettes en même temps afin d'accélérer la production. MATTSON Aspen II est bien équipé avec une transmission robotique X, Y, Z d'ultra-précision avec une vitesse maximale de 11 mm/sec. Il dispose également d'un alignement à haute vitesse basé sur la vision et la focalisation automatique. L'unité comporte également un refroidisseur pour refroidir au mieux le substrat afin de stabiliser le processus de gravure. Le taux de gravure est très stable, offrant des conditions de gravure flexibles avec la possibilité de répéter des résultats de haute performance. La machine est équipée d'une pompe à vide et est capable de créer un environnement à vide faible avec une pression de la chambre de 5 mTorr. L'outil dispose également d'un actif de dégazage pré-chambre intégré qui permet des conditions de gravure vierges. Aspen II est également capable de gravure anisotrope où la vitesse de gravure selon l'axe vertical est supérieure à la vitesse de gravure selon l'axe horizontal. MATTSON Aspen II propose une large gamme de produits chimiques de gravure tels que l'oxygène, le chlore, l'hexafluorure de soufre et les radicaux fluor. Afin d'assurer des résultats reproductibles, le modèle dispose également d'un contrôle à distance de paramètres clés tels que l'énergie électrique, la température et la source d'ions. En outre, l'équipement peut facilement être intégré dans les procédés semi-conducteurs existants. Aspen II est un excellent choix pour la gravure haute performance et à haut débit. Sa construction robuste et ses capacités de précision en font un choix parfait pour de nombreuses applications de gravure.
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