Occasion MATTSON Aspen II #9398659 à vendre en France

Fabricant
MATTSON
Modèle
Aspen II
ID: 9398659
Taille de la plaquette: 8"
ICP System, 8" MATTSON Endpoint detection system With fixed filters: 430 and 520 Cable length: 19 ft (3) RF Cables and signal cables (2) Heaters MFC Chambers: Back chamber: 366 MHz CPU: Analog in and PCB out Floppy Disk Drive (FDD): DI/DO Cards Chassis: Power supply Gas channel: Bottom feed channel Cool down station: No water cooling Gas lines Right chamber: 366 MHz CPU: SEC II Card Floppy Disk Drive (FDD): Robot stepper (SMC-PC3) Chassis: Backing plain Gas channel: Junction box Cool down station: Lexan plates Gas lines with filters Front end: 26" Opening with separate operator interface 4-Color light tower Operator / Engineering monitor: TFT Design monitor Gas box with sub frames EMO Buttons Interlock circuit: Push button switches Hanging panels Load lock: Single load lock (2) Cassette stations Capability of queuing lots Pin search assembly: Proximity sensors Load lock seal: Lip seal Platform and cassette: (4) 25-Slot cassettes Rotating cassette nests, 8" Cool down station: Flat cool down station without water lines Load lock fast exchange Transfer robot: Main robot: 3-Axis robot with flex cable Robot arm: (4) Adjustable paddles with standard arm Slit door Wafer sensors: Paddles, front and rear cassettes Shuttle: 26" Process module: Chamber right and back: Tube type: Quartz tube Standard process window ICP Chamber O-ring type: Flurosilicon Temperature controller: WATLOW 988 / EZ Zone Thermal couples: Spring loaded TC Lift pin assembly Grids / Guide rings: Extended guide ring Electrical feed through Manifold and ceramic parts Isolation valve Top plate Load lock Chamber Pressure controller: VAT Valve pressure controller Chamber manometer: 10 Torr Load lock manometer: 100 Torr Shuttle manometer: 1000 Torr RF / MW System: RF System: Top RF 13.56 MHz (3) RFPP10 RF Generators: (2) Power cables missing TRAZER AMU 10D-2 RF Top match, P/N: 914-92003-00: (2) Vacuum capacitors missing Re-silvered RF coils (125) RF Vacuum caps: 100PF AC Box: 2-3 Phase generators with safety cover DC Box Gas system: Gas VCR gasket: Stainless steel and Nickel Gas line / Gas / Range Gas 1 / O2 / 1000 SCCM Gas 2 / N2 / 1000 SCCM Gas 3 / N2/H2 (4%) / 2000 SCCM Gas 4 / CF4 / 100 SCCM Side: Gas 1 / O2 / 5 SLM Gas 2 / N2 / 1 SLM Gas 3 / CF4 / 200 SCCM Gas 4 / O2 / 1 SLM Rear: Gas 1 / O2 / 10 SLM Gas 2 / N2 / 1 SLM Gas 3 / CF4 / 200 SCCM Gas 4 / O2 / 1 SLM.
MATTSON Aspen II est un équipement de gravure avancé qui fournit une gravure de précision avec un débit élevé et un faible coût de possession. Il est conçu pour augmenter la productivité tout en offrant un haut niveau de flexibilité et de contrôle sur les paramètres de gravure. Aspen II est utilisé dans de nombreux types d'applications et de projets de recherche nécessitant la gravure de divers matériaux. Il convient à la gravure de nombreux substrats dont le silicium, le quartz, le molybdène et l'acier inoxydable. Le système dispose d'un étage réglable pour graver facilement les grands ou petits substrats, y compris les coins, les bords et les marches. La grande chambre de gravure permet de graver plusieurs plaquettes en même temps afin d'accélérer la production. MATTSON Aspen II est bien équipé avec une transmission robotique X, Y, Z d'ultra-précision avec une vitesse maximale de 11 mm/sec. Il dispose également d'un alignement à haute vitesse basé sur la vision et la focalisation automatique. L'unité comporte également un refroidisseur pour refroidir au mieux le substrat afin de stabiliser le processus de gravure. Le taux de gravure est très stable, offrant des conditions de gravure flexibles avec la possibilité de répéter des résultats de haute performance. La machine est équipée d'une pompe à vide et est capable de créer un environnement à vide faible avec une pression de la chambre de 5 mTorr. L'outil dispose également d'un actif de dégazage pré-chambre intégré qui permet des conditions de gravure vierges. Aspen II est également capable de gravure anisotrope où la vitesse de gravure selon l'axe vertical est supérieure à la vitesse de gravure selon l'axe horizontal. MATTSON Aspen II propose une large gamme de produits chimiques de gravure tels que l'oxygène, le chlore, l'hexafluorure de soufre et les radicaux fluor. Afin d'assurer des résultats reproductibles, le modèle dispose également d'un contrôle à distance de paramètres clés tels que l'énergie électrique, la température et la source d'ions. En outre, l'équipement peut facilement être intégré dans les procédés semi-conducteurs existants. Aspen II est un excellent choix pour la gravure haute performance et à haut débit. Sa construction robuste et ses capacités de précision en font un choix parfait pour de nombreuses applications de gravure.
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