Occasion MATTSON Aspen II #9401067 à vendre en France
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ID: 9401067
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1994
Dryer, 8"
ICP Chamber
Chamber Process: Ashing
GEM and SESC Interface
Cool down chamber
Cassette stage
Transfer robot
AC Power box
Signal tower
(2) ADVANCED ENERGY CESAR1312 RF Generators
DC and AC Power supply
Chuck type: Standard
MILLIPORE Manometor
Chamber Pump
Gate valve
Thermocuple
Heater
Pressure switch
Board
(3) Control boxes
Power tap
Hard disk
Throttle valve
EMO
Pipes
Cable
LCD Monitor
Control panel
PC Included
Missing parts:
Robot blade
Robot extention geneva
Robot extention gear
Robot rotation genva
Robot rotation gear
Robot motor
Side slit door
Shattle pressure gauge
Shattle chamber slit door
Shattle motor
Power supply: 208 V
1994 vintage.
MATTSON Aspen II est un appareil électrochimique de pointe conçu pour une large gamme d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système dispose d'une électronique de pointe pour le contrôle précis des processus de gravure et de cueillette, permettant des couches plus planes et plus épaisses sur de vastes substrats. Il est équipé d'un bain sans tuyère avancé, qui permet un contrôle précis et précis du processus de décapage, permettant des résultats prévisibles et reproductibles. De plus, la machine auto-nettoyante intégrée maintient l'outil en fonctionnement à des performances maximales en éliminant automatiquement l'accumulation de contamination. L'actif est conçu pour être fiable et efficace, de sa solution innovante sans tuyère à ses capacités de gravure rapide. Aspen II est capable de traiter jusqu'à 50 plaquettes par heure à une température maximale de 475 ° F et peut être utilisé pour une variété de matériaux, y compris le silicium, l'aluminium, le tungstène et le titanate. L'interface logicielle intégrée permet aux utilisateurs d'optimiser les paramètres et d'ajuster les paramètres du modèle pour un fonctionnement efficace. En outre, il offre une solution écologique, limitant les émissions de solvants, grâce à sa pompe à vide à haut rendement et ses capteurs de débit de gaz. Cela permet de s'assurer que les processus de gravure et d'ashing sont conformes aux règlements en matière d'environnement et de sécurité. La conception innovante de MATTSON Aspen II facilite également la maintenance, permettant un accès facile à tous les composants internes. De plus, le contrôleur de l'équipement gère le processus de gravure de la source au substrat, moyennant une vitesse de dépôt et d'élimination précise et répétable. En outre, le système de distribution de gaz de précision assure des flux de gaz précis et uniformes pour des processus de gravure et de cueillette optimisés, contribuant à réduire les variations de processus et à obtenir de meilleurs résultats. Aspen II est un appareil électrochimique/asher puissant et fiable. Il fournit un contrôle précis et répétable pour les processus de gravure et de cueillette, ce qui donne des couches plus plates et plus épaisses sur des substrats de grande portée. De plus, l'électronique sophistiquée de la machine garantit des performances fiables et efficaces, tandis que son outil auto-nettoyant intégré et ses capteurs de débit de gaz garantissent le respect des réglementations environnementales et de sécurité. De plus, sa conception innovante permet un entretien facile et une livraison précise du gaz, ce qui donne des résultats supérieurs avec une variation de processus minimale.
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