Occasion MATTSON Aspen II #9407761 à vendre en France

MATTSON Aspen II est un réacteur de gravure à plasma de moyenne à haute puissance. Il est capable de graver des plaquettes de tous types, y compris de l'arséniure de gallium, du silicium, du nitrure de gallium et du phosphure d'indium. Aspen II offre une grande enveloppe de procédé très précise, permettant une gravure précise des géométries planes, planes et 3D. MATTSON Aspen II est équipé d'une source de plasma couplée inductivement pour produire du plasma, ainsi que d'un bouclier de montage en aval pour aider à contenir le plasma et à réduire la contamination. La source est capable de générer à la fois de l'oxygène et du plasma à base de CF4, avec une puissance maximale de 1400 watts. La source utilise un système de contrôle informatique pour assurer la fourniture cohérente de puissance et la répétabilité des paramètres du processus. Aspen II offre une grande flexibilité dans les géométries de processus de gravure. La chambre peut accueillir des plaquettes jusqu'à un diamètre de 12 « avec une profondeur de 3 » ou moins. Il est capable de graver des éléments effilés et en relief, ainsi que des structures plus complexes. En outre, MATTSON Aspen II est compatible avec diverses chambres de procédés en aval, y compris l'électrodéposition, la photolithographie et le dépôt. D'autres caractéristiques d'Aspen II incluent sa capacité à graver des motifs fins avec une résolution minimale de 0,1 um, ainsi que sa grande uniformité de vitesse de gravure sur la surface de la plaquette. MATTSON Aspen II offre également un débit élevé, avec des temps de traitement de 5 minutes par plaquette ou moins. Aspen II est un outil de recherche de gravure idéal, en raison de sa grande enveloppe de processus et de son débit élevé. Son haut degré de flexibilité et de précision le rend apte à la gravure avancée de différents matériaux de substrat.