Occasion MATTSON Paradigm #293809621 à vendre en France

MATTSON Paradigm est une technologie de graveur/asher, qui utilise la lithographie optique pour graver ou asher des motifs sur un substrat. Cette technologie utilise un faisceau de particules dirigé sur une surface de substrat pour graver ou asher un motif composé de positions individuelles de pixels. Ce procédé est utilisé pour créer des caractéristiques plus petites et plus complexes sur le substrat que celles possibles avec la photolithographie traditionnelle. Le processus commence par la création d'un masque qui contient le motif qui doit être gravé ou cousu sur le substrat. Ce masque est alors projeté sur un substrat à l'aide d'une source de particules à haute énergie telle qu'un faisceau d'électrons ou un faisceau d'ions. Le faisceau irradie chaque pixel du masque, ce qui provoque la gravure ou le coulage du substrat dans les zones correspondant aux pixels du masque. Au fur et à mesure du processus d'irradiation, le matériau du substrat est enlevé pour créer le motif désiré. Le principal avantage de Paradigm est qu'il permet la gravure ou le cendrage de caractéristiques significativement plus petites que ce qui est possible avec la photolithographie traditionnelle. En effet, la taille de ce procédé est sensiblement inférieure à la longueur d'onde du faisceau de particules utilisé pour la gravure ou le cendrage. De plus, les poutres utilisées pour la gravure ou le cendrage peuvent être ajustées finement pour obtenir des caractéristiques qui dépassent les résolutions lithographiques typiques. Cette technologie offre également des temps de gravure ou de cendres plus rapides que la photolithographie et permet également d'obtenir des formes de motifs plus complexes que ce qui est généralement possible avec la lithographie traditionnelle. De plus, des motifs complexes peuvent être obtenus simultanément de part et d'autre du substrat, de sorte que deux gravures latérales ou couchage sont possibles. En termes de limitations, MATTSON Paradigm ne convient pas aux circuits ou dispositifs fabriqués avec des circuits intégrés. De plus, il n'a pas la capacité de graver ou d'asher les traits fins en raison de l'épaisseur du masque de gravure, ce qui augmente la difficulté à graver les motifs fins. Dans l'ensemble, Paradigm est une technologie de gravure ou de cendres puissante qui permet de graver ou d'asperger des motifs complexes à haute résolution tout en réalisant des temps de cycle plus rapides. La technologie est cependant limitée aux agencements individuels de masques et ne convient pas aux circuits intégrés, et également limitée dans la gravure ou le couchage de motifs fins.