Occasion MRC RIE-51 #293608747 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
MRC RIE-51 est un graveur/asher conçu pour être utilisé dans des environnements électroniques d'essai, de mesure et de fabrication. Il est équipé de caractéristiques avancées, y compris un équipement de régulation de température, une gamme complète de gravures et de cendres, et une précision de processus élevée. RIE-51 est conçu pour être utilisé avec presque n'importe quel type de matériau de substrat. Il fonctionne sur du gaz à deux pressions et travaille sur des matériaux humides et secs, ce qui le rend apte à la gravure et à la cueillette de la majorité des substrats. Il dispose également d'un système de régulation de température haute résolution qui peut réguler les taux de gravure et assurer des résultats très précis. Le MRC RIE-51 est conçu pour être utilisé dans un plus grand ensemble, avec l'aide de matériel compatible, tels que des générateurs RF, des alimentations et des étages de mouvement. Lorsqu'il est utilisé en combinaison avec le matériel approprié, l'appareil est capable d'obtenir des résultats extrêmement précis avec de faibles niveaux de dose ionisante totale (TID) et des taux d'emballage élevés. L'etcher/asher prend également en charge une sélection complète de cycles de gravure et asher, y compris Cristallite, Rideau, Looping, MaCAREE, et beaucoup d'autres. En outre, les utilisateurs peuvent facilement programmer et stocker leurs propres cycles spécifiques pour adopter des processus reproductibles et cohérents. Sa gamme complète de capacités permet la gravure et le cendrage de divers métaux, alliages et matériaux avancés, y compris la céramique, les composites et les stratifiés. RIE-51 est un choix idéal pour les applications qui nécessitent une haute précision et des performances répétables, comme la fabrication de plaquettes et les essais de dispositifs. Avec sa machine de contrôle robuste et sa gamme de cycles de gravure et de cendrage, le dispositif offre une combinaison imbattable de caractéristiques et de performances.
Il n'y a pas encore de critiques