Occasion NEMST 2002 #9244938 à vendre en France

NEMST 2002 est un outil de gravure graveur/asher, ou plasma, conçu pour la fabrication de structures et dispositifs semi-conducteurs complexes. Il fonctionne en utilisant un champ électromagnétique pour créer un plasma à haute énergie. Ce champ est généré par une source d'énergie radiofréquence (RF) de 500 kHz, 40 mT, ce qui crée un champ électrique uniforme autour de l'échantillon. 2002 se compose d'une chambre en acier inoxydable, d'une bobine RF entourant la chambre, d'un système de vide avec une seule alimentation en gaz et d'un échantillon ou substrat à graver. La chambre en acier inoxydable est de forme cylindrique, avec un rayon intérieur de 85 cm et une hauteur de 30 cm. La bobine RF crée le champ électrique, tandis que le système de vide maintient la pression à l'intérieur de la chambre à un niveau sûr. L'alimentation en gaz alimente différents gaz selon le type de gravure à appliquer. Le processus de gravure commence lorsqu'une pression faible (5-7 mbar) est appliquée à la chambre et la bobine RF est allumée, créant un champ électrique uniforme. Ce champ provoque l'accélération des particules chargées dans la chambre vers l'échantillon, libérant de l'énergie et établissant le processus de gravure. La vitesse de gravure est variable, allant de 10 à 100 nm/min. Les espèces gazeuses utilisées pour la gravure, ainsi que les conditions de gravure, sont personnalisables et peuvent être programmées dans NEMST 2002 pour une gravure précise. De plus, 2002 peut être utilisé pour effectuer une gravure sélective, où certaines zones de l'échantillon sont gravées à des taux différents. NEMST 2002 est capable de stocker jusqu'à 2900 recettes pour la gravure et peut être facilement programmé. 2002 est également équipé de dispositifs de sécurité tels qu'un système d'avertissement pour avertir l'opérateur si la pression, la température ou la transmission RF ne sont pas dans les limites de sécurité. En conclusion, NEMST 2002 est un graveur/asher fiable et efficace conçu pour la fabrication de structures et de dispositifs semi-conducteurs avancés. Sa bobine RF génère un champ électrique uniforme qui permet un traitement complexe sur des échantillons à l'intérieur de la chambre. De plus, l'année 2002 est conviviale, ce qui la rend bien adaptée aux applications éducatives et industrielles.