Occasion NOVELLUS Gamma 2100 #9083213 à vendre en France

NOVELLUS Gamma 2100 est un équipement de graveur/asher conçu pour plusieurs applications de gravure de précision. Il convient aux applications nécessitant une imagerie haute résolution, une gravure uniforme et un contrôle serré des vitesses de gravure. Ce système permet le traitement de divers matériaux, dont les métaux, les diélectriques et les semi-conducteurs composés. Gamma 2100 utilise une unité de transport de plaquettes basse pression pour maintenir un motif précis et répétable à la surface de la plaquette. La machine est également équipée d'un moteur pas à pas précis et reproductible qui contrôle le positionnement et le balayage des plaquettes, avec la capacité d'aligner et de déposer des couches de film argenté. NOVELLUS Gamma 2100 est conçu pour traiter des plaquettes jusqu'à 300 mm de diamètre et utilise un objectif d'imagerie de réduction 2x et une plaque de cage Faraday pour maximiser les performances d'imagerie. L'outil utilise une large gamme de gaz, et il est capable d'appliquer de multiples étapes de processus, y compris le masquage, la gravure, l'ashing et le stripping. Gamma 2100 offre un contrôle de gravure précis avec une plus grande sélectivité, une moindre contrainte et une meilleure profondeur de contrôle de gravure. NOVELLUS Gamma 2100 utilise également une vitre en quartz brevetée orientée vers le haut pour protéger la plaquette pendant le processus de gravure. Le cendrier fournit une gravure uniforme de petites caractéristiques ainsi que de très grandes caractéristiques sur la plaquette. Il utilise également un procédé de carrelage pour graver la plaquette de manière plus efficace. Gamma 2100 est conçu pour profiter pleinement des excellentes propriétés de la ligne NOVELLUS de chimiographies haute performance de gravure et d'ashing. NOVELLUS Gamma 2100 est l'atout de choix pour les composants critiques dans les appareils micro-électroniques haute performance. Il présente une fiabilité et une cohérence de traitement tout en offrant des performances de gravure et de cendrage supérieures pour le dépôt de couches minces de niveau supérieur. Le modèle est également conçu pour apporter une uniformité supérieure à une grande variété de processus photolithographiques qui nécessitent un haut niveau d'automatisation.