Occasion NOVELLUS Gamma 2100 #9228361 à vendre en France

Fabricant
NOVELLUS
Modèle
Gamma 2100
ID: 9228361
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
Asher, 8" (2) Wafer loaders for 8" Open cassette PATLITE WMEEN Signal tower (2) LCDSA141 Monitors (3) ADTEC AX-1000 II RF Generators MKS 325 ModuceII pirani vacuum tranducer MKS 153 Pressure control valve MKS 622 Pressure gauge (8) WATLOW 988 Series temperature controllers MFC: Model / Gas / Scale UFC-8160 / O2 / 5 L UFC-8160 / CF4 / 200 SCCM UFC-8160 / O2 / 5 L Power supply: 208 V, 60 A, 50/60 Hz, 3 Phase Hard Disk Drive (HDD) Missing 2002 vintage.
NOVELLUS Gamma 2100 est un graveur/asher développé par NOVELLUS Systems pour les applications d'emballage IC. Il s'agit d'un graveur/asher multi-processus à chambre unique qui utilise des procédés de gravure par plasma à couplage inductif (PIC) et de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Gamma 2100 peut graver des couches de métallisation de cuivre (Cu) ou d'aluminium (Al) et des couches composites via-remplissage pour des emballages à haut rapport d'aspect. NOVELLUS Gamma 2100 est capable de graver des matériaux tels que l'aluminium, le titane, le nickel, l'or, l'argent, les alliages et les matériaux à base de Cu pour des structures de métallisation en couches minces. Il peut également être programmé pour une gamme de paramètres de processus, tels que la température du substrat, la fréquence RF, la puissance RF et le débit de gravure, qui optimisent la vitesse de gravure et la qualité du profil. De plus, la capacité de graver des structures à couches multiples dans une seule chambre permet un débit plus rapide. Gamma 2100 etcher/asher est équipé d'une chambre de processus qui comprend deux modules indépendants. Le premier module utilise le processus ICP pour graver les couches de matériaux. Ce procédé crée une source de plasma haute température et haute densité qui grave des matériaux utilisant la technologie du plasma froid avec une source ICP basse température. Le deuxième module est utilisé pour déposer des couches de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) en utilisant la chimie à base de silicium. Ce module comprend également un porte-plaquettes à froid autonome pour faciliter la co-planarisation des couches CVD. NOVELLUS Gamma 2100 dispose également d'une zone chaude qui peut être adaptée aux processus d'application spécifiques. La zone chaude peut maintenir différentes températures de substrat pour maintenir la stabilité du processus de gravure, tout en assurant que la plaquette reste plate pendant la gravure. La température de la zone chaude est réglable entre 200 ° C et 500 ° C De plus, le graveur/asher utilise un système de serrure rapide qui isole complètement la chambre de traitement de l'environnement et élimine les matières corrosives et dangereuses pour l'élimination des déchets en toute sécurité. En outre, Gamma 2100 peut supporter jusqu'à cinq différentes chimies de gravure pour graver diverses structures de couches minces. NOVELLUS Gamma 2100 etcher/asher est un système convivial qui permet aux opérateurs de changer rapidement les programmes et les composants pour répondre aux exigences changeantes des produits. C'est un outil de gravure fiable et très précis qui offre une productivité élevée et peut répondre aux exigences d'emballage les plus exigeantes.
Il n'y a pas encore de critiques