Occasion NOVELLUS Gamma Express #9314670 à vendre en France

NOVELLUS Gamma Express est un équipement de gravure et d'ashing conçu pour l'amélioration des rendements de production et de développement. Il est capable d'effectuer la gravure sèche, la gravure humide, le cendrage et le décapage d'iode en un seul système. La plate-forme Gamma Express offre une compatibilité plasma combinée avec une technologie d'alignement de haute précision et des temps de qualification de cycle rapide et de substrat. NOVELLUS Gamma Express est conçu pour offrir un procédé de gravure reproductible de haute qualité avec un débit élevé. Pour ce faire, il utilise une unité d'alignement optique avancée qui est capable d'imagerie optique de précision sur une variété de matériaux de substrat, dont le silicium, l'arsenide de gallium et l'oxyde de silicium. Cela permet une gravure rapide et précise des petites tailles de fonctionnalités et assure une machine d'imagerie cohérente est maintenue sur l'ensemble du processus de gravure. Le procédé gravé est réalisé à l'aide d'une puissance radiofréquence (RF) alimentée par une alimentation RF haute tension. Cette puissance RF est utilisée pour générer un gaz plasma, qui est ensuite dirigé à travers la chambre de gravure à partir de la position du substrat, du matériau et des paramètres de gravure. Ce procédé assure un environnement de gravure uniforme avec des niveaux élevés d'isolement diélectrique. Gamma Express est également capable d'effectuer la gravure humide pour des applications qui nécessitent des niveaux plus élevés de vitesse d'élimination et de sélectivité. Ce procédé de gravure humide utilise un graveur liquide, tel que XeF2, combiné à un motif RF optimisé qui assure une gravure de précision. Ce procédé de gravure humide peut être utilisé pour des caractéristiques de rapport d'aspect élevé, par exemple : tranchées, vias et trous de contact. En plus de la gravure et de la gravure humide, NOVELLUS Gamma Express est capable d'aspirer et de décaper de l'iode. Le procédé de soutirage utilise un gaz à base d'oxygène afin d'éliminer la couche organique photosensible résiduelle d'une surface de plaquette. Le décapage de l'iode, par contre, utilise un gaz porteur de chlore pour éliminer la résine photosensible qui n'a pas été complètement développée au cours du processus de lithographie. Dans l'ensemble, Gamma Express est un outil très avancé qui fournit une imagerie de précision, un débit élevé, la compatibilité avec plusieurs substrats, et des temps de qualification de cycle et de substrat rapides. Il s'agit d'un actif de gravure et d'ashing fiable conçu pour maximiser l'amélioration des rendements pour les applications de production et de développement.