Occasion NSC ES 371 #9144811 à vendre en France

NSC ES 371 est un équipement de graveur/asher destiné à la fabrication de semi-conducteurs. Il utilise la technologie de gravure plasma pour créer rapidement et avec précision des motifs de haute précision sur une variété de substrats. Ce système dispose d'un faisceau d'électrons sous vide qui traite les substrats jusqu'à 150 mm en format plan et 3D. Il offre une grande uniformité et un rendement élevé, permettant des résultats de gravure précis. ES 371 est construit avec un design modulaire pour faciliter l'entretien et les mises à niveau. Il offre une gamme de méthodes de processus, y compris RIE (Reactive Ion Etch), ICP (Inductively Coupled Plasma), et IBI (Ion Beam Inducement). Ces implémentations offrent un meilleur contrôle des processus sur une large gamme de températures et de mélanges de gaz. La machine d'automatisation et de rétroaction intégrée de l'unité permet un réglage et un contrôle de processus ultra précis, contribuant à une efficacité de gravure maximale. La plage de température de fonctionnement de cet outil est flexible, avec des températures de fonctionnement standard allant de l'ambiante à 300 ° C Cette température peut être ajustée pour accueillir différents types de substrats. De plus, différents types de sublimation peuvent également être effectués sur NSC ES 371, ce qui en fait une plate-forme idéale pour de multiples applications de gravure. La norme ES 371 est équipée d'une variété de dispositifs de sécurité destinés à protéger à la fois l'utilisateur et l'actif lui-même. Cela comprend une fonction de protection contre la surcharge, qui surveille en permanence le modèle pour les niveaux de courant et de tension anormaux. De plus, l'équipement est conçu avec un système de détection des fuites d'eau qui peut détecter les cas de fuites à l'intérieur de l'unité, permettant une réparation et un entretien en temps opportun. Dans l'ensemble, NSC ES 371 est une machine de gravure/cueillette polyvalente capable de répondre aux besoins d'applications très précises. Ses capacités de contrôle de la température et des processus, ainsi que des caractéristiques de sécurité robustes, en font un choix idéal pour les applications semi-conductrices et connexes de l'industrie.