Occasion OXFORD INSTRUMENTS Opal #293759975 à vendre en France
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ID: 293759975
Taille de la plaquette: 4"
Style Vintage: 2015
Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) system, 4"
Mass Flow Controller 1: H2 50 SCCM
Mass Flow Controller 2: NH3 100 SCCM
Mass Flow Controller 3: N2 100 SCCM
Mass Flow Controller 4: O2 100 SCCM
Mass Flow Controller 5: Ar 100 SCCM
Substrate holder: 240 mm resistance-heated (up to 400°C)
Remote Plasma source: 300 W Capacity at 13.56 MHz (RF generator and automatic matching unit)
Metal precursors delivery: (2) Bubblers and (2) vapor drawns
Gas lines: Non-toxic gas lines (3 lines) and toxic gas lines (2 lines) with individual Mass Flow Controller (MFC)
Water delivery kit
Ozone generator
Vacuum gauges: 1000mT CM gauge and Penning
Pumping pipe work: 40 mm (heating kit)
Materials tested: Al2O3 films only with Ar, O2, TMA
TMA Precursor
Silicon wafer
PC
Operating system: Windows 7 Pro
2015 vintage.
INSTRUMENTS OXFORD Opal est un équipement de pointe de graveur/asher plasma conçu pour fournir des capacités de traitement avancées pour un large éventail d'applications dans les industries des semi-conducteurs, MEMS et nanotechnologies. Ce système innovant allie une technologie de pointe à un contrôle de précision pour obtenir une gravure et une cueillette très précises et uniformes de divers matériaux, ce qui en fait un outil indispensable pour les laboratoires de recherche et de développement, ainsi que pour les environnements de production. L'unité opale utilise une source de plasma haute densité pour produire un plasma énergétique qui élimine efficacement les matériaux des substrats par une combinaison de processus chimiques et physiques. Cette source de plasma est alimentée par la technologie plasma à radiofréquence avancée (RF), qui permet un réglage précis des paramètres plasmatiques tels que la densité, la température et l'énergie ionique pour optimiser les performances de gravure et de cendrage sur différents matériaux. Une des caractéristiques clés d'OXFORD INSTRUMENTS Opal est ses capacités avancées de contrôle des processus, qui permettent aux utilisateurs de définir et de surveiller les paramètres clés des processus en temps réel. La machine est équipée d'une interface conviviale qui donne accès à une large gamme de recettes de processus et permet une personnalisation facile des paramètres de processus pour répondre à des exigences spécifiques. Ce niveau de contrôle permet aux utilisateurs d'obtenir une répétabilité et une fiabilité de processus élevées, garantissant des résultats cohérents lot après lot. L'outil Opal offre également un haut degré de flexibilité, avec la capacité de traiter différentes tailles et types de substrat, y compris le silicium, le verre, les matériaux III-V, les polymères, et plus encore. L'actif est équipé d'une conception polyvalente de mandrin de plaquette qui s'adapte à différentes tailles et formes de plaquettes, et peut gérer à la fois les modes de traitement de plaquettes simples et de lots pour répondre aux besoins de différentes applications. En termes de capacités de gravure, OXFORD INSTRUMENTS Opal modèle excelle dans l'obtention de taux de gravure élevés et la sélectivité sur un large éventail de matériaux, ce qui le rend idéal pour des applications telles que le transfert de motifs, l'enlèvement de matériaux, et la fabrication de dispositifs. L'équipement est capable de réaliser des profils de gravure très anisotropes avec des rapports d'aspect élevés, permettant la fabrication de microstructures complexes avec une grande précision et fidélité. De plus, le système Opal est équipé de capacités de cendrage avancées pour l'élimination des contaminants organiques et des résidus photorésistants des substrats. La source de plasma haute densité de l'unité décompose efficacement les matériaux organiques et les composés volatils, laissant derrière elle des surfaces propres et sans résidus sans endommager le substrat sous-jacent. Dans l'ensemble, OXFORD INSTRUMENTS Opal est une machine de pointe de graveur/asher de plasma qui offre des performances inégalées, un contrôle de précision et une flexibilité de processus pour une large gamme d'applications en nanotechnologie. Avec sa technologie de pointe et son design innovant, l'outil Opal est un outil puissant pour les chercheurs et les fabricants qui cherchent à obtenir des résultats de traitement de haute qualité et fiables dans leurs processus de semi-conducteur et de microfabrication.
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