Occasion OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus #293824941 à vendre en France

ID: 293824941
Taille de la plaquette: 4"-6"
Style Vintage: 1995
PECVD System, 4"-6" Deposits: SiO2 & SiH4 Control PC EDWARDS E2M80 Vacuum pump RF Generator No burner gas abatement No silane MFC Gases: SiO2, SiH4 Temperature range: 300 °C 1995 vintage.
INSTRUMENTS D'OXFORD Le laboratoire 80 Plus est un équipement de graveur/asher plasma très avancé conçu pour le traitement précis et efficace d'un large éventail d'échantillons dans des environnements de recherche et de production. Tiré parti la fondation d'INSTRUMENTS D'OXFORD l'expertise célèbre dans la technologie de traitement de plasma, PlasmaLab 80 Plus incorpore des traits d'avant-garde et des éléments de design innovateurs pour livrer la performance supérieure et la flexibilité. Au cœur d'OXFORD INSTRUMENTS Le laboratoire 80 Plus est sa source de plasma haute densité, qui génère un plasma uniforme et stable capable de fournir des profils de gravure/cueillette hautement anisotropes avec une sélectivité et un contrôle de processus exceptionnels. Le système est équipé de ports d'injection de gaz multiples et d'une unité de distribution de gaz sophistiquée, permettant aux utilisateurs d'adapter les paramètres de processus pour obtenir les caractéristiques de gravure souhaitées pour différents matériaux et structures. La chambre de traitement 80 Lab Plus dispose d'une grande capacité de manipulation des plaquettes, permettant le traitement de plusieurs échantillons en une seule fois pour des applications à haut débit. La chambre est équipée de systèmes avancés de régulation de température et de régulation de pression pour maintenir les conditions de processus à des niveaux optimaux tout au long du cycle de gravure/ashing, assurant des résultats reproductibles et une excellente uniformité sur la surface de l'échantillon. L'un des principaux atouts d'OXFORD INSTRUMENTS Le laboratoire 80 Plus est ses capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus. La machine est équipée d'une gamme complète d'outils de diagnostic in situ, y compris la spectroscopie optique d'émission (OES), la spectrométrie de masse et l'interférométrie laser, permettant une surveillance en temps réel des paramètres plasmatiques et de la chimie des gaz pendant le traitement. Cela permet aux utilisateurs d'optimiser les conditions de processus à la volée et de faire des ajustements pour obtenir les résultats de gravure souhaités. En outre, le logiciel de contrôle intuitif d'OXFORD Instruments 80 Plus est entièrement intégré au logiciel de contrôle de processus d'OXFORD INSTRUMENTS, qui fournit une interface conviviale pour la mise en place de recettes de processus, la surveillance des paramètres de processus et l'analyse des données en temps réel. Le logiciel offre également des outils avancés d'enregistrement et d'analyse des données pour l'optimisation complète des processus et le contrôle de la qualité. En plus de ses capacités avancées dans le plasma etching/ashing, les INSTRUMENTS D'OXFORD PlasmaLab 80 Plus peuvent être facilement configurés pour un large éventail d'applications, en incluant la gravure à l'eau forte d'ion réactif (RIE), la gravure à l'eau forte de silicium profonde, l'enlèvement de polymère et la modification de surface. L'outil supporte une variété de gaz de procédé, tels que CF4, SF6, O2, Ar et Cl2, ce qui le rend adapté au traitement d'une variété de matériaux, y compris le silicium, le dioxyde de silicium, les métaux, les polymères et les semi-conducteurs composés. En général, PlasmaLab 80 Plus est un plasma flexible et puissant etcher/asher l'actif qui offre la performance incomparable, la flexibilité et le contrôle pour demander des applications de production et de recherche. Avec ses traits avancés, interface de logiciel intuitive et design robuste, les INSTRUMENTS D'OXFORD PlasmaLab 80 Plus sont un outil indispensable pour accomplir des résultats de gravure à l'eau forte de haute qualité et une accélération de l'innovation dans la fabrication d'appareil de semi-conducteur, le développement de MEMS/NEMS et la recherche de matériel avancée.
Il n'y a pas encore de critiques