Occasion OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus #293824942 à vendre en France

ID: 293824942
Taille de la plaquette: 4"-6"
Style Vintage: 1998
PECVD System, 4"-6" Control PC Burner gas abatement EDWARDS E2M80 Vacuum pump Deposits: SiO2, SiH4, Amorphous Si Temperature range: 300 °C RF Generator MFCs 1998 vintage.
INSTRUMENTS D'OXFORD Le laboratoire 80 Plus est un équipement avancé de graveur/asher à plasma conçu pour les processus de gravure et d'ashing de précision dans l'industrie des semi-conducteurs et d'autres applications de recherche sur les matériaux. Cet outil de haute performance intègre des technologies de pointe pour offrir un contrôle supérieur des processus, une uniformité et une répétabilité pour un large éventail de matériaux et de structures de dispositifs. Le système plasmatique RF à double source de la Base 80 Plus permet à la fois la gravure et les processus de modification de surface en phase gazeuse. Son unité de génération de plasma de pointe utilise une combinaison d'alimentations RF et de réseaux d'adaptation pour créer des plasmas haute densité et basse pression bien adaptés à la gravure de divers matériaux, dont le silicium, les composés III-V, les métaux, les diélectriques et les polymères. L'un des principaux avantages d'OXFORD INSTRUMENTS Le laboratoire 80 Plus est sa configuration à double source, qui permet l'utilisation de différents gaz et procédés chimiques pour obtenir un large éventail de résultats de gravure et de cendres. La machine est équipée de multiples entrées de gaz et régulateurs de débit massique, permettant un contrôle précis de la composition et des débits des gaz de procédé. Cette flexibilité permet aux utilisateurs d'adapter la chimie du plasma aux exigences spécifiques du procédé, telles que la sélectivité des gravures, le contrôle du profil des parois latérales et l'optimisation du taux de gravure. PlasmaLab 80 Plus les traits une haute performance Chuck électrostatique (ESC) avec les capacités de contrôle de température, en fournissant la stabilité substrate excellente et l'uniformité pendant le traitement. L'ESC peut accueillir une variété de tailles et de types de substrat, y compris des plaquettes, des pièces et des échantillons de forme irrégulière. En outre, l'outil intègre une configuration de gravure ionique réactive (RIE) avec une alimentation de polarisation RF dédiée pour un contrôle précis de l'énergie ionique et de la directionnalité, permettant des capacités de gravure profonde et anisotrope. INSTRUMENTS D'OXFORD La technologie de contrôle des processus de l'Oxford Instruments 80 Plus est équipée d'un outil sophistiqué qui permet de surveiller et d'ajuster en temps réel les principaux paramètres du processus, tels que les débits de gaz, la pression, la puissance RF et la température. Le logiciel modèle fournit une interface conviviale pour la création de recettes, l'enregistrement des données et l'optimisation des processus, permettant aux utilisateurs de développer et de transférer facilement des recettes entre différentes configurations d'outils ou laboratoires. Du point de vue de la performance, PlasmaLab 80 Plus les offres grave à l'eau forte haut et les taux de cendre, l'uniformité excellente et repeatability et le dommage bas au matériel sensible. Les capacités avancées de détection d'endpoint de l'équipement garantissent un contrôle précis du processus et des résultats cohérents sur plusieurs parcours. De plus, les routines automatisées de nettoyage et d'entretien de l'outil aident à minimiser les temps d'arrêt et à garantir une performance optimale du système au fil du temps. En général, les INSTRUMENTS D'OXFORD PlasmaLab 80 Plus sont un plasma sophistiqué etcher/asher l'unité qui offre la commande du processus incomparable, la flexibilité et la performance pour un large éventail d'applications dans l'industrie de semi-conducteur et le champ de recherche de matériel. Avec sa technologie avancée et interface facile à utiliser, PlasmaLab 80 Plus est un outil essentiel pour les chercheurs et les ingénieurs espérant accomplir la gravure à l'eau forte précise et fiable et les résultats d'ashing.
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