Occasion OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus #293831458 à vendre en France

INSTRUMENTS OXFORD Plasmalab 800 Plus est un équipement sophistiqué de gravure et de cueillette de plasma conçu pour des applications avancées de traitement des semi-conducteurs. Cet outil offre un contrôle précis des paramètres de gravure pour obtenir des résultats de gravure uniformes et de haute qualité sur une variété de matériaux de substrat. Avec sa technologie de pointe et ses caractéristiques innovantes, Plasmalab 800 Plus est un outil polyvalent pour la recherche et le développement dans les domaines de la microélectronique, MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems), l'optoélectronique et la nanotechnologie. INSTRUMENTS OXFORD Plasmalab 800 Plus dispose d'une source de plasma à double fréquence qui offre une flexibilité et un contrôle accrus du processus. Le système est équipé de sources de plasma inductives (ICP) et capacitives (CCP), ce qui permet aux utilisateurs d'adapter les caractéristiques du plasma pour répondre à des exigences de traitement spécifiques. La configuration à double source permet une large gamme de chimies plasmatiques et de conditions de processus, ce qui rend l'unité adaptée à une gamme variée d'applications de gravure et de cendrage. L'un des points forts de Plasmalab 800 Plus est ses capacités avancées de contrôle des processus. La machine est livrée avec un ensemble complet d'outils logiciels qui permettent aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster les paramètres de processus en temps réel. Cela comprend le contrôle des débits de gaz, de la pression, de la puissance RF, de la tension de polarisation et de la température. L'outil dispose également d'une détection et d'un contrôle automatiques des points d'extrémité, ce qui garantit des profondeurs de gravure précises et une détection des points d'extrémité pour chaque étape du processus. INSTRUMENTS OXFORD Plasmalab 800 Plus offre un haut degré d'homogénéité et de répétabilité des processus, grâce à sa technologie avancée de manipulation des plaquettes et de conception des chambres. Le modèle est équipé d'un mécanisme de verrouillage de la charge sous vide robuste, qui assure un chargement et un déchargement rapides et fiables des plaquettes sans compromettre la qualité du procédé. La conception de la chambre intègre des caractéristiques avancées de distribution de gaz et de confinement plasma, qui aident à obtenir des résultats de gravure uniformes sur toute la surface de la plaquette. Plasmalab 800 Plus supporte un large éventail de processus de gravure, y compris la gravure ionique réactive (RIE), la gravure ionique réactive profonde (DRIE), le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) et le nettoyage/ashing du plasma. L'équipement est capable de graver différents matériaux tels que le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium, les métaux, les polymères et les semi-conducteurs composés. Cette polyvalence fait d'OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus un outil idéal pour fabriquer des microstructures et des appareils complexes avec des rapports d'aspect élevés et des tailles de caractéristiques fines. En plus de ses capacités de traitement, Plasmalab 800 Plus offre une interface conviviale qui simplifie le fonctionnement et la maintenance. Le système dispose d'interfaces intuitives de contrôle logiciel et de surveillance, qui permettent aux utilisateurs de mettre en place et d'exécuter des processus avec une formation minimale. L'unité comprend également des outils de diagnostic intégrés pour le dépannage et l'entretien préventif, assurant un maximum de temps de disponibilité et de productivité. Dans l'ensemble, OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus est une machine de gravure et de cendrage plasma à la pointe de la technologie qui offre un contrôle de précision, une flexibilité de procédé et des performances élevées pour des applications de recherche et de développement de semi-conducteurs exigeantes. Sa technologie de pointe, ses fonctions de contrôle des processus et son interface conviviale en font un outil précieux pour les utilisateurs universitaires et industriels travaillant dans les domaines de la microélectronique, du MEMS, de l'optoélectronique et de la nanotechnologie.