Occasion OXFORD Micro-dep 300 #293740502 à vendre en France

OXFORD Micro-dep 300 est un équipement de pointe de graveur/asher largement utilisé dans diverses industries, y compris les semi-conducteurs, la microélectronique, MEMS, et la photonique pour des processus précis d'élimination des matériaux. Cet équipement de pointe offre des performances exceptionnelles, une répétabilité et un contrôle des processus, ce qui en fait un choix privilégié pour la recherche et le développement ainsi que pour des applications de production à haut volume. Une des caractéristiques clés de Micro-dep 300 est ses capacités avancées de traitement du plasma, qui permettent une gravure/cueillette précise et uniforme de divers matériaux tels que le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium, les métaux et les couches diélectriques. Ce système repose sur les principes de la gravure ionique réactive (RIE) et du dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), ce qui permet aux utilisateurs d'obtenir des profils de gravure très anisotropes avec une rugosité minimale et une excellente sélectivité. OXFORD Micro-dep 300 est équipé d'une chambre à vide robuste, d'une source de plasma RF haute puissance, d'une unité de distribution de gaz et de mécanismes de régulation de température précis pour créer un environnement de processus hautement contrôlé. La chambre à vide assure des conditions de basse pression pour la production de plasma, tandis que la source de plasma RF excite efficacement les gaz de procédé pour créer un plasma énergétique. La machine de distribution de gaz permet un contrôle précis des gaz de gravure tels que SF6, CF4, O2 et Ar, permettant aux utilisateurs d'adapter la chimie de gravure en fonction de leurs besoins spécifiques. En outre, Micro-dep 300 dispose d'outils de diagnostic plasma avancés tels que la spectroscopie optique d'émission (OES) et la spectrométrie de masse pour surveiller et analyser les caractéristiques du plasma en temps réel. Cette capacité permet aux utilisateurs d'optimiser les paramètres du processus, d'atteindre les taux de gravure souhaités, les sélectivités et l'uniformité, et de résoudre les problèmes de processus efficacement. L'outil intègre également une interface conviviale avec un contrôle logiciel intuitif pour un fonctionnement facile et la gestion des recettes. Les utilisateurs peuvent programmer et stocker plusieurs recettes de processus, ajuster des paramètres clés tels que la puissance, la pression, les débits de gaz et la température, et surveiller la progression du processus à travers une interface graphique utilisateur. De plus, OXFORD Micro-dep 300 offre des outils complets d'enregistrement et d'analyse des données, permettant aux utilisateurs de suivre les tendances des processus, d'identifier les écarts et d'optimiser les performances des processus pour améliorer la productivité et le rendement. En termes de performances, Micro-dep 300 offre des taux de gravure élevés, une excellente homogénéité sur l'ensemble de la plaquette, et une sélectivité de gravure supérieure, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications nécessitant un enlèvement précis des matériaux. Que ce soit par bombardement ionique pour la gravure physique ou par espèces réactives pour la gravure chimique, l'atout offre aux utilisateurs la flexibilité nécessaire pour atteindre les profils de gravure et les finitions de surface désirés. Dans l'ensemble, OXFORD Micro-dep 300 est un modèle de graveur/asher polyvalent et fiable qui répond aux exigences strictes des procédés modernes de fabrication de semi-conducteurs et de microélectroniques. Grâce à ses capacités avancées de traitement du plasma, à son contrôle précis et à son interface conviviale, cet équipement permet aux chercheurs et aux fabricants d'obtenir des résultats de processus supérieurs, d'optimiser les performances des appareils et de stimuler l'innovation dans le domaine du traitement des matériaux avancés.