Occasion OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 #293765810 à vendre en France

OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 est un équipement de gravure/asher conçu pour fournir un traitement haute résolution, reproductible et fiable d'une large gamme de matériaux. Il s'agit d'une plaque unique, système de poche double avec une taille maximale de substrat de 200mm (8 po) et une taille minimale de substrat de 150mm (6 po). Il utilise la technologie source du plasma à couplage inductif (PIC) pour les techniques avancées de gravure/cueillette et est capable d'atteindre des vitesses de gravure allant jusqu'à 100 nanomètres par minute. Le cœur de l'unité est constitué d'une machine à gaz avancée, d'une source de plasma ICP couplée inductivement, d'un générateur RF puissant, d'une pompe à vide et d'une unité de contrôle. L'outil est conçu pour permettre l'intégration facile de processus multiples tels que la bande de photorésist, gravure, cendre et plus encore. La conception double poche permet aux utilisateurs d'échanger rapidement des chambres pour différents processus ainsi que de soutenir le traitement double face. En outre, l'actif supporte une large gamme de gaz et leurs processus correspondants, y compris Ar, F2, O2, CF4, CHF3, SF6, et plus encore. Le modèle offre également le contrôle et la répétabilité des processus grâce à des techniques avancées de contrôle du plasma. OXFORD PLASMALAB 100/ICP 180 a un contrôle de température avancé pour les deux chambres, ce qui permet aux utilisateurs de maintenir une température stable tout au long du processus de gravure/cueillette. L'équipement offre également des réglages programmables du débit de gaz et permet à l'utilisateur de régler et d'ajuster les paramètres du processus plus précisément que jamais. Le système est entièrement automatisé et est contrôlé via une interface tactile conviviale. Il offre des progiciels intégrés conçus pour faciliter l'utilisation et des performances fiables. L'unité peut également être intégrée aux systèmes et réseaux de fabrication existants pour un processus fiable et efficace. Plasmalab 100-ICP 180 est idéal pour la fabrication de semi-conducteurs, de produits électroniques grand public, de solaires et de MEMS. Il est très fiable et offre le plus haut niveau de contrôle pour les processus avancés. Grâce à sa technologie de pointe, à son contrôle exceptionnel de la température et à sa forte répétabilité des procédés, PLASMALAB 100/ICP 180 est un excellent choix pour les procédés de gravure/ashing avancés dans les applications à haute résolution.